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半導(dǎo)體清洗設(shè)備 芯矽科技
半導(dǎo)體清洗設(shè)備 芯矽科技

參考價格

面議

型號

qzd

品牌

芯矽科技

產(chǎn)地

蘇州

樣本

暫無
蘇州芯矽電子科技有限公司

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半導(dǎo)體清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備,用于去除晶圓表面的污染物(如顆粒、有機(jī)物、金屬離子、氧化物等),確保后續(xù)工藝(光刻、沉積、蝕刻等)的良率和產(chǎn)品性能。根據(jù)清洗原理,主要分為濕法清洗和干法清洗兩類,其中濕法清洗占主流(占比超過90%)。

主流清洗技術(shù)及設(shè)備

1.濕法清洗設(shè)備

原理:利用化學(xué)溶液(如酸、堿、溶劑)與污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),結(jié)合物理手段(超聲波、噴淋、旋轉(zhuǎn))去除雜質(zhì)。

典型設(shè)備:

噴淋式清洗機(jī):通過噴嘴將化學(xué)液均勻噴灑至晶圓表面,適用于單片清洗,具有高效、均勻性好的特點(diǎn)。

超聲波清洗機(jī):利用高頻聲波振動產(chǎn)生空化效應(yīng),剝離微小顆粒和有機(jī)物,適用于精密結(jié)構(gòu)(如3D NAND)。

旋轉(zhuǎn)噴射式清洗機(jī):結(jié)合旋轉(zhuǎn)晶圓承載臺與化學(xué)液噴射,增強(qiáng)流體沖擊力,適合高粘度污染物清洗。

核心組件:

耐腐蝕槽體(PFA/PTFE/石英材質(zhì));

流體分配系統(tǒng)(噴淋臂、超聲波發(fā)生器、液體循環(huán)過濾模塊);

溫控系統(tǒng)(±0.5℃精度,支持加熱與冷卻);

干燥模塊(旋干法、氮?dú)獯祾呋騃PA脫水法)。

2. 干法清洗設(shè)備

原理:不依賴液體化學(xué)劑,通過物理或化學(xué)手段去除污染物。

典型設(shè)備:

等離子清洗機(jī):利用等離子體中的活性粒子(如氧、氬離子)與表面污染物反應(yīng),適用于去除有機(jī)物和氧化層。

激光清洗機(jī):通過激光束直接燒蝕污染物,精度高但成本昂貴,多用于特殊工藝。

紫外線清洗裝置:利用紫外光分解有機(jī)物,常用于光刻膠殘留處理。

3. 混合清洗設(shè)備

趨勢:集成濕法與干法工藝,實(shí)現(xiàn)多功能清洗。例如,先通過濕法去除重金屬離子,再利用等離子體處理殘留有機(jī)物。

關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)與設(shè)計特點(diǎn)

均勻性控制:

噴淋臂對稱分布與流體仿真優(yōu)化,減少晶圓邊緣與中心清洗差異3;

兆聲波(>1MHz)替代傳統(tǒng)超聲波,避免損傷精密結(jié)構(gòu)3。

低損傷設(shè)計:

非接觸式傳輸(氣浮或磁懸浮承載臺);

化學(xué)液循環(huán)過濾(0.1μm顆粒過濾器)防止二次污染。

智能化與自動化:

PLC+HMI控制:支持工藝參數(shù)編程(溫度、流速、旋轉(zhuǎn)速度等);

數(shù)據(jù)追溯:記錄每片晶圓清洗參數(shù),支持SPC統(tǒng)計與AI優(yōu)化3;

遠(yuǎn)程監(jiān)控:集成SCADA系統(tǒng),對接MES平臺實(shí)現(xiàn)工廠智能化管理。

環(huán)保與安全:

廢液分類回收(如HF、H?O?分離處理);

酸堿中和裝置與廢氣吸附系統(tǒng)(活性炭過濾或化學(xué)洗滌);

SEMI S8/S2合規(guī)設(shè)計,配備防爆與泄漏檢測功能。

應(yīng)用場景與典型工藝

前道清洗(晶圓制造):

RCA清洗(SC-1去有機(jī)物→SC-2去金屬→DHF去氧化層);

光刻后殘留光刻膠清洗、蝕刻后金屬污染去除。

后道清洗(封裝測試):

存儲卡匣(FOUP)清潔,避免晶圓運(yùn)輸污染;

老化載具翻新,延長設(shè)備壽命。

先進(jìn)制程適配:

支持Chiplet、3D封裝等工藝的高精度清洗需求;

兼容第三代半導(dǎo)體(SiC/GaN)材料污染控制。

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