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蘇州樣本
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專為半導(dǎo)體晶圓、芯片、封裝基板等高精度清洗設(shè)計的自動化槽式清洗設(shè)備,適用于半導(dǎo)體制造全流程(如擴散、光刻、蝕刻后清洗),滿足IC、功率半導(dǎo)體、MEMS等工藝的嚴(yán)苛清潔需求。
核心優(yōu)勢
高精度清洗能力
采用多級槽式結(jié)構(gòu),支持化學(xué)清洗、超聲清洗、噴淋清洗、純水漂洗等復(fù)合工藝,去除芯片表面的光刻膠殘留、氧化物、顆粒污染物及有機雜質(zhì)。
配備納米級顆粒過濾系統(tǒng),確保清洗液潔凈度達到Class 10標(biāo)準(zhǔn),避免二次污染。
智能化控制
PLC+觸摸屏操作界面,支持工藝參數(shù)(溫度、流速、清洗時間、超聲波頻率)精準(zhǔn)調(diào)控,適配不同尺寸晶圓(4英寸-12英寸)和材料(硅片、玻璃基板、GaN等)。
自動補水、排液、液位監(jiān)測功能,實現(xiàn)全自動化清洗流程,減少人工干預(yù)。
高效節(jié)能設(shè)計
模塊化槽體設(shè)計,支持熱循環(huán)利用,降低能耗;
低耗超聲系統(tǒng),兼顧清洗效果與設(shè)備壽命,運行成本優(yōu)化。
超強兼容性與安全性
適配HF、H2O2、緩沖氧化物蝕刻液(BOE)等半導(dǎo)體級化學(xué)試劑,耐腐蝕材料(PFA、PTFE)槽體,延長設(shè)備壽命。
多重安全保護:泄漏檢測、氣體報警、緊急停機功能,保障生產(chǎn)安全。
符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
通過SEMI S8/S2認(rèn)證,滿足ISO 14644-1潔凈度要求,適配半導(dǎo)體前道制程(FEOL)和先進封裝(ATP)需求。
應(yīng)用場景
半導(dǎo)體前道制程:光刻后殘留物清洗、蝕刻后微粒清除、晶圓表面預(yù)處理。
先進封裝:TSV(硅通孔)清洗、Bumping工藝后清潔、封裝基板去污。
功率半導(dǎo)體/三代半:SiC/GaN晶圓清洗,兼容強酸/強堿工藝。
半導(dǎo)體材料加工:硅片切割后清洗、再生晶圓處理。
客戶價值
提升良品率:避免顆粒污染導(dǎo)致的電路缺陷,保障芯片性能;
降低生產(chǎn)成本:高效清洗縮短周期,化學(xué)液回收系統(tǒng)減少耗材浪費;
適配高端需求:滿足2.5D/3D封裝、Chiplet等新興工藝的清潔挑戰(zhàn)。
可選配件
化學(xué)液在線配比系統(tǒng)(精確控制清洗液濃度);
純水超濾裝置(提升漂洗水質(zhì));
真空干燥模塊(防止水漬殘留);
SCADA系統(tǒng)集成(對接MES系統(tǒng),實現(xiàn)智能化工廠管理)。
暫無數(shù)據(jù)!