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科研級磁控濺射設備—MS-400品牌
致真精密產地
安徽樣本
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MS-400磁控濺射設備是一款多功能多靶磁控濺射系統(tǒng)，具有超高真空，單原子層沉積精度，設備維護簡單的特點。MS-400系統(tǒng)標配6個2inch共焦超高真空陰極，滿足實驗室或企業(yè)實驗室中工藝研究的需求，維護簡單，運行穩(wěn)定。
性能參數
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優(yōu)于±2% |
極限真空 | 優(yōu)于1×10-9mbar（金屬密封） 優(yōu)于1×10-8mbar（膠圈密封） |
溫控 | RT-800℃，可選**1200℃ |
陰極數量 | 6~7個2inch，共焦濺射 |
客戶案例1
通過本MS-400科研級磁控濺射，制備了具有強PMA的Mo基結構的單自由層和雙自由層MTJ磁隧道結薄膜。
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