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科研級磁控濺射設(shè)備—MS-700品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
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MS-700磁控濺射設(shè)備是一款具有多功能、多陰極的磁控濺射系統(tǒng)，具有超高真空，單原子層沉積精度的特點。可根據(jù)需求配置4inch以下的圓形陰極，可選擇垂直濺射、自動傳輸、反應(yīng)濺射、膜厚測量等配置。適用于研發(fā)和生產(chǎn)需要多靶濺射的中高精度的工藝需求。
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 4inch-6inch |
鍍膜均勻性 | 優(yōu)于±2% |
極限真空 | 優(yōu)于5×10-10mbar（金屬密封） 優(yōu)于5×10-9mbar（膠圈密封） |
溫控 | RT-800℃，可選**1200℃ |
陰極數(shù)量 | 12個2inch 或 6個4inch，共焦濺射 |
電源 | DC、RF、DC Pulse |
沉積精度 | 0.1nm |
占地面積 | 4m L*3m W*2.5m H |
可選 | 低溫泵、垂直濺射、自動傳輸、反應(yīng)濺射、膜厚儀、RGA、工藝菜單等 |
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