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EVG 610光刻機(jī)品牌
亞科電子產(chǎn)地
北京樣本
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-重現(xiàn)性：
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其他分散方式：
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產(chǎn)品簡介：
EVG 610是一款入門級光刻機(jī)，支持接近式、軟接觸、硬接觸、真空接觸4種曝光方式，可選配背面對準(zhǔn)模塊。也可用于鍵合對準(zhǔn)及納米壓印光刻（NIL），是科研開發(fā)用戶的理想選擇。
主要特點(diǎn)及參數(shù)：
·**支持8英寸（200mm）晶圓
·頂部及底部對準(zhǔn)：
頂部對準(zhǔn)精度≤±0.5μm
底部對準(zhǔn)精度≤±2μm
紅外對準(zhǔn)精度≤±2μm（取決于襯底材料）
鍵合對準(zhǔn)精度≤±2μm
納米壓印對準(zhǔn)精度≤±2μm
·支持汞燈或UV-LED光源
·自動楔形補(bǔ)償程序
·可選配功能：
鍵合對準(zhǔn)
紅外對準(zhǔn)
納米壓印光刻（NIL）
暫無數(shù)據(jù)！
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