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美國PE公司1980年就開始致力于電子行業(yè)使用的等離子設(shè)備研發(fā)及相關(guān)服務(wù)， 至今已成為全美***的等離子系統(tǒng)解決方案專業(yè)供應(yīng)商， 其旗下PE系列， BT大尺寸系列，大氣壓系列， PCB專用系列， Roll-to-Roll系列的發(fā)展歷史已經(jīng)超過了30年， 廣泛應(yīng)用于全球各大小型生產(chǎn)及研發(fā)實驗室， 全球超過8000套用戶。
知名客戶如美國宇航局NASA， 波音Boeing， 霍尼韋爾Honeywell， 摩托羅拉Moto， 德國拜耳Bayer， 軍用飛機領(lǐng)軍企業(yè)洛克希德馬丁Lockheed-Martin， 及全美各大名校及科研院所如哈佛大學(xué)， 麻省理工， 萊斯大學(xué)， 橡樹嶺國家實驗室等等。
美國PE擁有等離子技術(shù)領(lǐng)域里*頂尖的技術(shù)， 憑借著多年研發(fā)和突破性創(chuàng)新， 先已擁有了多項技術(shù)**， 如**的溫控技術(shù)和**的靜電屏蔽技術(shù)， 使其等離子設(shè)備能提供****的處理效率， 均勻性和可靠性， 其刻蝕清洗效率是市面上其他等離子設(shè)備的三倍以上。
應(yīng)用領(lǐng)域如下：
目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于：等離子清洗、刻蝕、改性、灰化、涂鍍和反應(yīng)離子刻蝕，在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
RIE系統(tǒng)刻蝕效果取決于氣體的流量，壓力和功率設(shè)置等方面。
我們設(shè)計和制造的反應(yīng)性離子蝕刻系統(tǒng)，可以滿足客戶的任何需要，且可以根據(jù)客戶的要求定制適合的等離子系統(tǒng)。我們的等離子處理系統(tǒng)，以提供快速，高品質(zhì)的蝕刻，低損傷，提供****的均勻性而著稱。
我們的等離子蝕刻機是理想的干蝕刻，目前正在采用的蝕刻：
半導(dǎo)體/集成電路
氮化鎵（甘）
氮化鋁鎵/氮化鎵（AlGaN/GaN）
砷化鎵/砷化鋁鎵（一般反避稅條款/ algaar）
砷化鎵（GaAs）
磷化銦、銦鋁砷/銦鎵砷化物（InP InGaAs/InAlAs）
硅（硅）
硅鍺（SiGe）
氮化硅陶瓷（Si3N4）
硅的溴化氫（sihbr）
硒化鋅（ZnSe）
金屬
鋁（鋁）
鉻（鉻）
鉑（鉑）
鉬（鉬）
鈮（鈮）
鉭（鉭）
鈦（Ti）
鎢（鎢）
電介質(zhì)
銦錫氧化物（ITO）
鋯鈦酸鉛（PZT）
碳化硅（碳化硅）
塑料/聚合物
聚四氟乙烯（PTFE）
聚甲醛（POM）
聚苯并咪唑（PBI）
聚醚醚酮（PEEK）
聚酰亞胺（聚酰亞胺）
聚酰胺（尼龍）
全氟烷氧基烷（PFA）
聚全氟乙丙烯（FEP）
聚烯烴
聚酯
失效分析
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移動端
工商已核實
