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TERA Fab E系列是首臺商業(yè)化光束筆光刻(BPL)納米加工系統(tǒng)， 儀器使用多達(dá)兩萬支可獨(dú)立編程筆陣列， 每支筆尖都有相同尺寸小孔光闌來進(jìn)行無掩膜光刻; 自定義軟件允許研究人員在0.5x0.4平方厘米區(qū)域內(nèi)快速精確拼接不同圖形， 且特征尺寸分辨率優(yōu)于200納米; 這個工具可以快速地制作電子和光學(xué)器件， 制造光刻掩模， 以及光化學(xué)研究， 桌面式操作上手容易， 無需無塵室; 更多應(yīng)用及產(chǎn)品細(xì)節(jié)信息TERA中國區(qū)官方授權(quán)商：溢鑫科創(chuàng)。
典型的應(yīng)用包括：
*研究單個細(xì)胞
*使用DNA、蛋白質(zhì)、肽或碳水化合物陣列
*微流控或微納電子功能器件的制備
*圖案化水凝膠
*高定域光化學(xué)
*合成和發(fā)現(xiàn)用于催化、光子學(xué)或治療學(xué)應(yīng)用的新納米材料
*其他高密集高分辨的微納米器件制造
暫無數(shù)據(jù)！
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