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污染管理解決方案

行業(yè)污染管理

污染管理系統(tǒng)是我們專門為半導體和制藥行業(yè)**開發(fā)的。憑借普發(fā)真空多年來作為真空技術(shù)供應商的經(jīng)驗，已經(jīng)使我們對生產(chǎn)體系的工藝、設備以及環(huán)境的專有技術(shù)和理解完全成形?；谶@一認識，我們已開發(fā)了能夠識別并*小化污染以及提高工藝每個步驟產(chǎn)量的解決方案。歸根結(jié)底，我們知道，具有科學認識的高級分析是分子層面含有污染的關鍵所在。

普發(fā)真空的污染管理方案提高了敏感器件生產(chǎn)各個工藝步驟的產(chǎn)量及良率。

普發(fā)真空創(chuàng)新的解決方案

為保證生產(chǎn)質(zhì)量和高產(chǎn)量，對器件包裝中的污染物及其直接環(huán)境的認識是十分重要的。

在半導體行業(yè)，通過 APA 302，可以在處理周期內(nèi)進行連續(xù)性的分析。而 ADPC 302 全自動化的工藝則能夠在運輸載體的內(nèi)表面上對粒子進行定位和計數(shù)。至于 APR 4300，在此基礎上甚至更進了一步。

污染是如何發(fā)生的?

在半導體行業(yè)，在運輸和等待期間，晶圓發(fā)射出了反應副產(chǎn)品。通過氣流傳播的水分和分子污染物（空氣分子污染物，簡稱 AMC），例如氟化氫 (HF)，在運輸箱（吊艙系統(tǒng)）的狹隘間隙里與環(huán)境空氣中的氧化劑(H2O 和 O2) 發(fā)生反應。在這些反應中，生長在結(jié)構(gòu)化晶片上那些不需要的晶體被觸發(fā)，從而導致了質(zhì)量的下降和產(chǎn)量的減少。在制藥行業(yè)，比如濕度、氧氣或微生物侵入等污染可以在整個產(chǎn)品生命周期影響藥物穩(wěn)定性。

APA 302

在潔凈室環(huán)境下，APA 302 是用于先進芯片制造的獨特在線監(jiān)測工具。這臺革新性設備可以測量 FOUP 和周圍環(huán)境中的空氣分子污染物（簡稱 AMC）。該測量實時發(fā)生，在 ppbv 范圍內(nèi)具有很高的靈敏度。

有效的污染監(jiān)測

水分和空氣分子污染物 (AMC)，例如，氟化氫 (HF)，于等待時間內(nèi)，在 FOUP 槽對槽的空間里被釋放出來。而這些元素會在圖樣晶圓上生成晶體生長，從而導致產(chǎn)量的損失和性能的退化。普發(fā)真空的 APA 302 通過 FOUP 過濾器來對 AMC 進行采樣。在 ppb 的范圍內(nèi)，通過離子遷移光譜儀、火焰離子化檢測、熒光紫外線或光腔衰蕩光譜技術(shù)，測量在 2 分鐘內(nèi)發(fā)生，具有高靈敏度。而當負載端口上沒有 FOUP 時，APA 302 會監(jiān)控周圍的潔凈室環(huán)境。

FOUP 環(huán)境的可靠分析

為了保證性能，SEMI S2/S8 兼容的 APA 302 配備了自動校準功能，它會在定期的時間間隔內(nèi)被激活。對于在 APA 中對 AMC 的監(jiān)控，可在有晶圓或無晶圓的 POD 中執(zhí)行。FOUP 可以手動傳送，也可通過 2 個負載端口上的懸掛式起重運輸 (OHT) 來傳送。因此，可優(yōu)化各工藝步驟間的等待時間，污染的增加量能立刻被察覺到，且產(chǎn)量增加。

尺寸

APR 4300

APR 4300 可在分子層面上凈化 300 mm 的晶圓以及它們的運輸箱 (FOUP)，并在等待時間內(nèi)保護它們。

可靠的凈化處理和預防污染

APR 是一個在等待時間內(nèi)凈化晶圓并防止污染的系統(tǒng)?？諝夥肿游廴疚铮ê喎Q AMC）降低了半導體生產(chǎn)中的產(chǎn)量和質(zhì)量而 APR 則能有效地防止晶圓和輸送箱表面吸附被污染的有機或無機分子。通過在 APR 室里進行疏散，吸附概率大幅度減少。晶圓廠可通過這種方式顯著地增加產(chǎn)量，且各個工藝步驟之間的等待時間也會得到優(yōu)化。

APR 是如何工作的？

FOUP 既可以手動傳送，也可通過 2 個裝載端口上的懸掛式起重運輸 (OHT) 來傳送。APR 是一個帶有四疊真空室的系統(tǒng)，用于對晶圓和 FOUP 作凈化去污處理，這項工作由一個可靠的機器人來擔任。所有腔室都配備了真空泵站、氣箱、操作面板以及帶電源的控制器。且這些腔室均可以單獨地進行操作。當把含有晶圓的 FOUP 裝載到腔室以后，腔室中的壓力減少到 0.1 mbar。然后進行去污凈化處理。之后，該腔室采用潔凈的氮氣進行吹掃并恢復到大氣壓。此時，這些晶圓以及運輸箱不受污染已超過一天。

尺寸

ADPC 302

ADPC 302 是一款在半導體領域獨特的用于粒子污染監(jiān)測的過程內(nèi)污染管理系統(tǒng)。

高效粒子監(jiān)測

亞微米粒子會造成可能導致相當大產(chǎn)量損失的缺陷。即使是測量值為 0.1 μm 的*小粒子，也可能會損壞半導體芯片的結(jié)構(gòu)。創(chuàng)新的 ADPC 302 可測量晶片傳送載體內(nèi)的粒子數(shù)量（前開式晶圓傳送盒 FOUP，前開式裝運箱 FOSB）。全自動的**工藝從載體表面(包括門)對粒子進行定位和計數(shù)。

得益于**的晶圓，該系統(tǒng)可用于成批生產(chǎn)和研發(fā)分析。主要應用是載體特征化、清洗策略優(yōu)化和清洗質(zhì)量檢查。

與傳統(tǒng)濕法相比較（液體顆粒計數(shù)器），ADPC 的干式工藝（干式粒子計數(shù)器）顯示出了明顯的優(yōu)勢。干式工藝的主要優(yōu)勢在于粒子測量是完全自動的。它是在生產(chǎn)過程中集成的，因此不再需要生產(chǎn)周期之外的時間。有了全自動測量，該過程無需額外的操作員。測試時間只需 ７分鐘，意味著 ADPC 302 的速度是傳統(tǒng)系統(tǒng)的 ４ 倍。可在 １ 個小時內(nèi)測試 8 個運輸箱。

尺寸