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HPA/SPM

定性和定量氣體分析模塊化和靈活的解決方案。

高壓分析儀 HPA 220

在壓力范圍高達 50 hPa 下的氣體分析

高壓分析儀 HPA 220 是一個模塊化、靈活實用的質(zhì)譜儀系統(tǒng)，它帶有一個干式渦輪分子泵組，可用于在壓力高達 50 hPa 的真空中進行氣體分析。

根據(jù) HPA 220 的用途，有五種不同電動氣動以及手動操作的進氣口閥可供選擇。

產(chǎn)品優(yōu)勢

• 由于其 5 種手動、電動氣動操作的進氣口選擇，使得它在壓力高達 50 hPa 壓下為分析、監(jiān)測和控制過程提供了很大的靈活性。

• 通過各種數(shù)字和模擬輸入和輸出，使系統(tǒng)集成方便而靈活。

• 多重操作允許多個質(zhì)譜儀 系統(tǒng)只用一臺電腦進行數(shù)據(jù)評估。

• 緊湊的尺寸實現(xiàn)靈活的集成。

應用

• 在 1 · 10-7 至 50 hPa 的壓力范圍內(nèi)進行真空工藝的分析、監(jiān)測和控制

• 真空鍍膜系統(tǒng)的制造商和操作員

• 半導體生產(chǎn)

• 光刻

• 冶金

• 真空爐

• 研發(fā)

鍍膜工藝監(jiān)測器 SPM 220

10-2 hPa 的即時鍍膜工藝氣體分析

真空鍍膜工藝監(jiān)測器 SPM 220 為鍍膜工藝的定性和定量氣體分析提供了**的解決方案。HiPace 渦輪分子泵組和質(zhì)譜儀系統(tǒng)的組合加上專門開發(fā)的鍍膜工藝監(jiān)測器離子源，在高達 10-2 hPa 的壓力下，實現(xiàn)了精確到分鐘的工藝氣體分析。

普發(fā)真空還提供了一個帶有壓差孔板法蘭的版本作為選擇，使得在高達 10 hPa 的壓力范圍里進行直接的工藝氣體分析成為了可能。

產(chǎn)品優(yōu)勢

• 用于瞬時過程監(jiān)測的鍍膜工藝監(jiān)測器離子源

• 用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的優(yōu)秀檢測限

• 對測量結(jié)果的*小化背景影響

• 壓力高達 10 hPa 的壓差版本

• 多重操作允許帶單個 PC 的多個質(zhì)譜儀系統(tǒng)進行數(shù)據(jù)評估

• 靈活集成的緊湊尺寸

• 通過各種數(shù)字和模擬輸入和輸出，使系統(tǒng)集成方便而靈活

應用

• 在高達 10-2 hPa 的壓力下，鍍膜工序的分析可精確到分鐘

• 真空鍍膜系統(tǒng)的制造商和操作員

• 半導體生產(chǎn)

• 玻璃鍍膜

• 薄膜太陽能電池發(fā)電

• 研發(fā)

尺寸