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擴(kuò)散爐、低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備(LPCVD)
產(chǎn)地：韓國(guó)；
有單管和雙管兩個(gè)不同的型號(hào)，用于科研或者小規(guī)模生產(chǎn)。
性能和特點(diǎn)：
- 溫度范圍：500 ~ 1000攝氏度；
- 氣體混合能力(帶有質(zhì)量流量計(jì))；
- 真空范圍：~ 10-6 Torr；
典型應(yīng)用：
- 無(wú)應(yīng)力氮化硅；
- LPCVD；
- 退火；
- 氧化；
- 其他...
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