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KLOE微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī)UV-KUB系列
KLOE微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī)UV-KUB系列

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

品牌

產(chǎn)地

法國(guó)

樣本

暫無
北京燕京電子有限公司

會(huì)員

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第2年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列

圖片

簡(jiǎn)介

法國(guó)KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn),其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng),結(jié)構(gòu)緊湊,可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上,能夠處理zui大直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預(yù)熱,也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外,UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計(jì),保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性,其zui小分辨率可達(dá)2μm,zui大發(fā)散角小于2°

本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。

規(guī)格參數(shù)

項(xiàng)目

UV-KUB 2

UV-KUB 3

zui小分辨率

2 μm

2 μm

光源波長(zhǎng)

365 nm / 385 nm / 405 nm

365 nm

能量密度

25 mW / cm2 ± 10 %

30 mW / cm2 ± 10 %

熱效應(yīng)zui大升溫

< 1°C

< 1°C

曝光時(shí)間

1s~18 hours

1s~18 hours

zui大存儲(chǔ)程序數(shù)量

10個(gè)

無限制

對(duì)準(zhǔn)分辨率

/

< 3 μm

外形尺寸

260 x 260 x 260 mm3

480 x 480 x 480 mm3

重量

8.2 kg

55 kg

顯示屏

彩色觸摸屏5.7 inches

彩色觸摸屏15.6 inches

功能圖解

UV-KUB 2型光刻機(jī),是國(guó)際市場(chǎng)上一款采用UV-LED光源系統(tǒng)的光刻機(jī),其配備了基于LED光源的光學(xué)頭,使用壽命大大提高,結(jié)構(gòu)小巧,性價(jià)比高,非常適合實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。

UV-KUB 3是一款帶對(duì)位功能的UV-LED曝光機(jī),光源為365nm,其觸摸屏和CCD相機(jī)代替了傳統(tǒng)的顯微鏡及雙筒目鏡,控制器提供了圖像捕獲、測(cè)量以及對(duì)齊坐標(biāo)的記錄等功能,可以實(shí)現(xiàn)預(yù)對(duì)準(zhǔn),這樣,用戶再通過操作手柄便能方便的進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)操作。

UV-KUB 2

UV-KUB 3

應(yīng)用系統(tǒng)

微流控芯片

MEMS器件

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