更多其它專題
- ·導(dǎo)熱材料大比拼，為何金剛石后來居上
- ·干法電極技術(shù)何時商業(yè)化？
- ·納米顆粒大小，該用哪種“尺子”測量？
- ·單壁碳納米管何時才能規(guī)�；瘧�(yīng)用？
- ·硅基負極“百億賽道”
- ·混合設(shè)備，如何選擇？
- ·光伏玻璃，“冰火兩重天”
- ·國產(chǎn)半導(dǎo)體陶瓷零部件：不破不立！
- ·粉煤灰，“爛泥扶上墻”！
- ·日本固態(tài)電池“大進軍”
- ·MLCC，“支棱”起來了？
- ·哪種導(dǎo)電劑更受鋰電池青睞？
- ·鋰渣問題解決后，未來可能價格“暴漲”
- ·高純石英砂的紅旗還能扛多久？
- ·固態(tài)電池“遇上”低空經(jīng)濟
- ·“一把鑰匙開一把鎖”：粉體表面改性劑該怎么選
- ·固態(tài)電池產(chǎn)業(yè)化“攔路虎”曝光
- ·立方氮化硼：國產(chǎn)盤子大，但不精
CMP拋光液，國產(chǎn)之路走到了哪兒？
中國粉體網(wǎng)訊 近年來我國在CMP拋光液國產(chǎn)化方面取得了顯著進步，中國本土CMP 拋光液企業(yè)不斷崛起，國內(nèi)市場競爭格局隨之變化，國產(chǎn)替代進程將進一步加速�；瘜W(xué)機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)被譽為是當今時代能實現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面全局平坦化的目前唯一技術(shù)，化學(xué)機械拋光的效果直接影響到芯片最終的質(zhì)量和成品率。 通過拋光液中化學(xué)試劑的化學(xué)腐蝕和機械磨削的雙重作用，在原子水平上去除表面缺陷，獲得全局平坦化表面，因此，拋光液對拋光效果起著至關(guān)重要的影響。 CMP工藝 來源：何潮等，半導(dǎo)體材料CMP過程中磨料的研究進展一、CMP拋光液1. CMP拋光液..【詳細】
更多專題報道
- ·氧化鋁拋光液的主要挑戰(zhàn)就是原材料！——專訪無錫云嶺半導(dǎo)體有限公司..
- 2025-05-06
- ·沖突再起，CMP行業(yè)突圍迫在眉睫
- 2025-04-17
- ·產(chǎn)業(yè)協(xié)同，共謀突破！2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會成功召..
- 2025-04-17
- ·對話丨2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會特邀專家采訪實況
- 2025-04-16
- ·2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會參展企業(yè)風采
- 2025-04-16
- ·2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會在河南鄭州隆重開幕！
- 2025-04-16
