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醫(yī)藥結(jié)晶體、化工原料結(jié)晶體的粉碎方法及設(shè)備

晶體（crystal）是由大量微觀物質(zhì)單位（　原子　、　離子　、　分子　等）按一定規(guī)則有序排列的結(jié)構(gòu)，因此可以從結(jié)構(gòu)單位的大小來(lái)研究判斷排列規(guī)則和晶體形態(tài) 。

實(shí)際上是一些用于藥品合成工藝過(guò)程中的一些　化工原料　或化工產(chǎn)品。這種化工產(chǎn)品，不需要藥品的生產(chǎn)許可證，在普通的化工廠即可生產(chǎn)，只要達(dá)到一些的級(jí)別，即可用于藥品的合成

目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM ，下游的客戶在處理這些物料有更高的要求　
　
一般需要達(dá)到5-10UM　 ，粉碎的方法主要有兩種：1干法氣流粉碎，2濕法粉碎 。

干磨產(chǎn)生大量灰塵，從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^(guò)濾系統(tǒng)。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會(huì)產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時(shí)，這一點(diǎn)尤其重要。達(dá)到規(guī)定的安全等級(jí)通常需要精心設(shè)計(jì)的技術(shù)解決方案，如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過(guò)濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實(shí)際研磨機(jī)的成本?！?/span>

　
用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處：

研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中，因而從開(kāi)始就避免了灰塵的形成。

與干磨系統(tǒng)不同，被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi)，從而大幅減少了損失。因此，濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品，尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)，或者有毒物質(zhì)的研磨。

相對(duì)干磨過(guò)程而言，濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中，并且取得了良好的效果，因?yàn)樗浅＿m用于API（活性藥用成分）。

粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過(guò)能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過(guò)程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上，　各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動(dòng)態(tài)的平衡。

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