中國粉體網(wǎng)訊  近日，據(jù)浙江博來納潤電子材料有限公司消息，博來納潤研發(fā)團隊推出的鉭酸鋰LTPOL-124、LTPOL-125A/B、LTPOL-126A/B三款拋光液通過客戶實測驗證，正式問世。

博來納潤官網(wǎng)

在科技飛速發(fā)展的當下，鉭酸鋰（LT）作為一種優(yōu)良的多功能晶體材料，憑借其優(yōu)良的壓電、電光和熱電性能，以及機電耦合系數(shù)大、低損耗、高溫穩(wěn)定性和高頻性能好等特點，被廣泛應用于移動通信、衛(wèi)星通信等民用及軍事領域�？梢哉f，從我們日常使用的手機，到關于國防安全的雷達，鉭酸鋰都在發(fā)揮著巨大作用。

在拋光加工這一環(huán)節(jié)，常見的拋光技術如機械拋光、化學拋光、磁研磨拋光、流體拋光、電化學拋光、離子束轟擊拋光、浮法拋光等，均屬于局部平坦化技術，且平坦化能力從幾微米到幾十微米不等，但是國際上普遍認為，加工工件特征尺寸在0.35μm以下時，必須進行全局平坦化，化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術被譽為是當今時代能實現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面全局平坦化的唯一技術，化學機械拋光的效果直接影響到芯片最終的質量和成品率。

然而，鉭酸鋰屬于硬脆材料，鉭酸鋰拋光往往要耗費大量時間，難度增加，如何高效完成CMP工藝，成為了棘手難題。

日前，博來納潤公司鉭酸鋰LTPOL-124、LTPOL-125A/B、LTPOL-126A/B三款拋光液通過客戶實測驗證，正式問世。該產品線覆蓋堿性、中性、酸性各加工工藝的需求，且均具備優(yōu)異的去除速率、高儲存穩(wěn)定性和拋光后易清洗等優(yōu)點。這個系列的拋光液產品就像為鉭酸鋰加工量身定制的神奇鑰匙，有望開啟國產化拋光液的高效拋光新時代。

堿性拋光液LTPOL-124：引航拋光速率新高度

堿性拋光液LTPOL-124與競品液的性能比較，以及拋后粗糙度

當1kg拋光液循環(huán)3個小時，全程無需加液和調整pH，LTPOL-124相較競品速率提升10-20%。而且，無論在何種稀釋比的條件下，LTPOL-124均有著更高的去除速率，且保持著＜0.2 nm的拋后粗糙度，這代表著極為優(yōu)異的超精密加工水平。

中性拋光液LTPOL-126A/B：比日本進口產品具有更高的稀釋比，更具性價比

中性拋光液LTPOL-126A/B與日本競品液的性能比較，以及拋后粗糙度

同樣使用1kg拋光液循環(huán)拋光3小時，中途不加液，不調整pH，LTPOL-126A/B相較競品顯示出更高的速率，且拋后粗糙度＜0.2 nm。這款產品使用博來納潤自制硅溶膠，不僅超過了日本進口產品的性價比，而且產品還不易結晶和劃傷，為國內企業(yè)提供更優(yōu)質、更經(jīng)濟的選擇。

酸性拋光液LTPOL-125A/B：高去除速率，有望重塑市場格局

酸性拋光液LTPOL-125A/B與傳統(tǒng)堿性配方競品的性能比較，以及拋后粗糙度

對于追求高去除速率的市場需求，LTPOL-125 A/B 無疑提供了一個很好的選擇。1kg拋光液循環(huán)拋光3個小時，中途不加液、不調整pH的情況下，相較傳統(tǒng)堿性配方競品，LTPOL-125 A/B速率提升1.8-2倍，且循環(huán)3個小時后，速率衰減<15%，拋后粗糙度＜0.25 nm，表現(xiàn)出色。

參考來源：

[1] 博來納潤官網(wǎng)

[2] 燕禾等，化學機械拋光技術研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

[3] 嚴嘉勝等，硅晶片化學機械拋光液的研究進展

[4] 夏琳，硅溶膠化學機械拋光液的研究

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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