參考價格
5-10萬元型號
CMD2000品牌
IKN產地
德國樣本
暫無能耗：
0-40處理量：
0-500L/H物料類型：
其它工作原理：
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納米導電銀漿研磨分散機，聚合物銀導電漿料研磨分散機，燒結型銀導電漿料研磨分散機，不銹鋼研磨分散機，在線式納米導電銀漿研磨分散機，為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
銀導電漿料分為兩類：①聚合物銀導電漿料（烘干或固化成膜，以有機聚合物作為粘接相）；②燒結型銀導電漿料（燒結成膜，燒結溫度>500℃，玻璃粉或氧化物作為粘接相）。銀粉照粒徑分類，平均粒徑<0.1μm(100nm)為納米銀粉； 0.1μm< Dav（平均粒徑） 10.0μm為粗銀粉。構成銀導體漿料的三類別需要不同類別的銀粉或組合作為導電填料，甚至每一類別中的不同配方需要不同的銀粉作為導電功能材料，目的是在確定的配方或成膜工藝下，用zui少的銀粉實現(xiàn)銀導電性和導熱性的zui大利用，關系到膜層性能的優(yōu)化及成本。
低溫常溫固化導電銀膠主要應用：具有固化溫度低，粘接強度極高、電性能穩(wěn)定、適合絲網(wǎng)印刷等特點。適用于常溫固化焊接場合的導電導熱粘接，如石英晶體、紅外熱釋電探測器、壓電陶瓷、電位器、閃光燈管以及屏蔽、電路修補等，也可用于無線電儀器儀表工業(yè)作導電粘接；也可以代替錫膏實現(xiàn)導電粘接。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
納米導電銀漿研磨分散機，聚合物銀導電漿料研磨分散機，燒結型銀導電漿料研磨分散機，不銹鋼研磨分散機，在線式納米導電銀漿研磨分散機
研磨分散機的特點：
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將先進的技術與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國際先進的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
研磨分散機的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設備核心參數(shù):
設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
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CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節(jié)到zui大允許量的10%
納米導電銀漿研磨分散機，聚合物銀導電漿料研磨分散機，燒結型銀導電漿料研磨分散機，不銹鋼研磨分散機，在線式納米導電銀漿研磨分散機
用優(yōu)化設計理念，將先進的技術與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.
親水性OX50納米二氧化硅分散液混合分散機，防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機，納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機，連續(xù)式納米二氧化硅分散機，在線式納米二氧化硅分散機，德國進口分散機，在線式分散機IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復合物，具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國柏林化學公司在上世紀七十年代開發(fā)上市，在歐美等國家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑（Emulsion）是指互不相溶的兩相液體，其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內相或非連續(xù)相，另一相液體則稱為分散介質、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球（microspheres）是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質中而形成的微小球狀實體，其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
上海依肯產品冊 不同轉速分散機比較 依肯（IKN）機械 最新產品目錄 依肯（IKN）機械 最新產品目錄 依肯（IKN）機械不同轉速分散機的比較 IKN乳化頭定轉子技術 
《哪吒之魔童鬧海》（哪吒2）票房一路飆升，成功突破120億大關，這成績堪稱“票房奇跡”！影片中金色與黑色勢力的激烈交鋒，那高速對撞、渦旋升騰沖擊出一片片血霧的震撼畫面，是不是讓你印象深刻？小編看到這些
通常情況下，工業(yè)化生產的過氧苯甲酰呈現(xiàn)為類似雪珠的顆粒，直徑在0.01至0.5厘米之間；或者類似食鹽大小的顆粒，直徑在60至150微米范圍內。當這類顆粒尺寸的過氧苯甲酰被用于凝膠或乳膏劑時，其粒徑大小
在藥品產業(yè)化進程中，研發(fā)部門與生產部門的技術認知差異，往往導致從實驗室到車間的關鍵跨越成為"死亡之谷"。這種矛盾本質上是兩種專業(yè)邏輯的沖突： ▌研發(fā)端的典型困境"
二氧化硅高含量漿料因其獨特的物理和化學性質，如高穩(wěn)定性、高硬度、高耐磨性和良好的化學惰性，在多個行業(yè)中有著廣泛的應用。以下是一些主要的應用行業(yè)：1.半導體和電子行業(yè)芯片制造：二氧化硅漿料用于半導體芯片
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移動端
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