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氫氧化鎂阻燃劑分散機，氫氧化鋁阻燃劑分散機，阻燃劑分散機，氫氧化鋁分散機，氫氧化鎂阻燃劑研磨分散機，上海依肯阻燃劑分散機，轉速高達14000rpm，二級工作組，膠體磨頭+分散盤定轉子，粒徑更小，分散更均勻。

隨著高分子材料工業(yè)的發(fā)展，塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領域。但大部分高分子材料均易于燃燒，在很多應用領域中，需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度，從而達到預防火災、減緩火勢蔓延的密度。近年來，高分子阻燃技術受到全球性的關注阻燃劑以及成為僅此于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。

作為重要的無極阻燃劑產(chǎn)品，氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環(huán)境友好、阻燃性強而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比，氫氧化鎂具有熱穩(wěn)定性高、成炭效率高和降酸能力強等特點?？梢詮V泛的應用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。

目前，氫氧化鎂阻燃劑的超細化、納米化是主要的研究方向。在高分子材料的加工溫度下，氫氧化鎂都是以顆粒狀存在于體系中，一般而言，填充量相同時，氫氧化鎂的顆粒越細，其分散越均勻，阻燃效果越明顯，對材料物理力學性能的負面影響越小，甚至還會起到剛性粒子增塑增強的效果。

然而，要獲得超細的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質的分散設備，傳統(tǒng)的分散設備，一方面無法將氫氧化鎂漿料進一步細化，另一方分散效果不佳。上海IKN結合多家阻燃劑廠家，可知，采用IKNCMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鎂漿料進行進一步的研磨和分散，粒徑更小，分散更均勻，包經(jīng)理18018542795。
 
            
            

IKN研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備，先研磨后分散機，因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中，會形成二級團聚體，軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。IKN研磨分散機二級工作組，轉速高達14000rpm，剪切力強，分散更徹底。

CMSD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMSD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
      

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

  
CMSD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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