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負極材料通常分為碳材料和非碳材料兩類，其中碳材料包括人造石墨、天然石墨、中間相炭微球等；非碳材料包括氮化物、硅基材料、合金材料等。

納米材料是指材料在某一維、二維或三維方向上的尺度達到納米尺度。納米材料可以分為零維材料、一維材料、二維材料、三維材料。
零維材料是指電子無法自由運動的材料，如量子點、納米顆粒與粉末。
一維材料是指電子僅在一個非納米尺度方向上自由運動（直線運動），如納米線性結(jié)材料、量子線，**代表的是碳納米管（carbon nanotube）。
三維材料是指電子可以在三個非納米尺度上自由運動，如納米粉末高壓成型或控制金屬液體結(jié)晶而得到的納米晶粒結(jié)構(gòu)（納米結(jié)構(gòu)材料）。

上海依肯**研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

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CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用。

研磨分散機的特點：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念，將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中，為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，**程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國際先進的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.