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產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述：醫(yī)藥輔料二氧化鈦研磨分散機(jī)，納米二氧化鈦研磨分散機(jī)，醫(yī)藥研磨分散機(jī)，二氧化鈦研磨分散機(jī)，分體式研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，不銹鋼研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)價(jià)格

二氧化鈦在食品和醫(yī)藥中使用二氧化鈦同樣是利用了其不透明性，以提高食品和醫(yī)藥制品的裝飾增白著色效果。藥用白色顏料，具有顏料性能好，有害雜質(zhì)含量低等優(yōu)點(diǎn)，是食品著色的添加劑，具有粒度均勻，均質(zhì)性好的優(yōu)點(diǎn)，適合用于：果凍、膨化食品、糖果、涼果、口香糖、硬糖、沙拉醬、碳酸飲料和奶制品系列等食品增白著色。藥用白色顏料，具有優(yōu)異顏料性能有害雜質(zhì)的量低，適合制造不透明、片劑薄膜包衣、霜?jiǎng)?、藥用包裝材料、藥用油墨，也可作為化妝品和食品的添加劑。具有粒度均勻，均質(zhì)性好的優(yōu)點(diǎn)，去粒子水和明膠中均質(zhì)良好，無(wú)絮凝沉淀物。

研磨分散機(jī)對(duì)于研磨藥用輔料二氧化鈦的優(yōu)勢(shì)：

一、縮短工藝時(shí)間。IKN高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末，并消除結(jié)塊和團(tuán)聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機(jī)，將粉體直接加入液體，無(wú)需循環(huán)處理，一次性通過(guò)便可成型。

二、提高品質(zhì)。IKN高剪切混合機(jī)可以打碎結(jié)塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度，這兩個(gè)特征由分散好壞直接決定。

三、減少資金投入。IKN磨機(jī)可以**程度縮小粒徑，達(dá)到窄粒徑分布。IKN分散研磨設(shè)備的流量比同類(lèi)研磨設(shè)備高出很多，但也可達(dá)到相類(lèi)似的效果。模塊化設(shè)計(jì)的IKN 2000系列產(chǎn)品，可以幫助客戶(hù)節(jié)約資金投資。

IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來(lái)CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)（均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán)）。從而形成研磨分散機(jī)，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成。

研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
                          

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。

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【CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)】

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

【CMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表】

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).

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