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產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述：  水煤漿研磨分散工藝   水煤漿研磨分散機  水煤漿研磨機  德國研磨分散機  研磨分散機在煤化工的應(yīng)用  研磨分散機價格

“水煤漿”， “水”、“煤”和“漿”混均而成的具有流變特性的漿體燃料，水是其重要組成之一。那么，水煤漿技術(shù)就是把“水”、“煤”和“漿”三者進行物理加工并應(yīng)用的方式方法。追溯煤漿演變進程，可以領(lǐng)悟到其中的“替代”過程，即從單純的油品液體燃料；到煤粉替代部分油料，出現(xiàn)煤—油混合型漿體燃料，即油煤漿；又經(jīng)水替代部分油品，出現(xiàn)煤—乳化油（油—水）混合型漿體燃料；再到水替代全部油品，出現(xiàn)煤—水混合型漿體燃料，即水煤漿。

水煤漿制漿工藝通常包括破碎、磨礦、攪拌與剪切，以及為剔除*終產(chǎn)品中的超粒與雜物的濾漿等環(huán)節(jié)。

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通常具有以下物理性質(zhì)：

序 號 名 稱 符 號 單 位 數(shù) 值 備 注 
1 重量濃度  % 66%±1%  
2 表觀粘度  CP 1000±200 100S-1,20℃ 
3 灰份 Ad %<9  
4 硫份 St,d % ±0.5  
5 揮發(fā)份 Vdaf % >30  
6 **粒徑 dmax μm<300  
7 平均粒徑  dpj<45μm  
8 發(fā)熱量 Qnet.v.ar KJ/kg 19228 4600大卡

（*國產(chǎn)某品牌煤漿物理性質(zhì)）

在國內(nèi)，傳統(tǒng)的研磨方法分為干磨和濕磨兩種，通常采用球磨機，平均粒徑為50 微米左右。如采用IKN  ER2000系列高剪切乳化分散機進行分散研磨，平均粒徑可達到10 微米以下，并從以下幾個方面體現(xiàn)出工藝改進的優(yōu)勢：

1）      改善煤漿的分散性，并減少分散劑用量

2）      改善煤漿的穩(wěn)定性，并減少穩(wěn)定劑用量

3）      改善煤漿的燃燒效率和燃燒熱

4）      若在剪切分散時加入適當氧化劑，可幫助煤分充分燃燒

5）      可嘗試低溫燃燒，從而減少有毒物的排放

6）      大大提高生產(chǎn)效率，每小時處理量可以達到100噸甚至更高，在線連續(xù)生產(chǎn)，正常狀況下，可以實現(xiàn)3-6個月不停機運轉(zhuǎn)

7）      機器維護簡單，故障率低

8）      由于顆粒較小，降低后續(xù)工程部件磨耗頻率和周期

上海IKN技術(shù)，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

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CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列化工研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

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