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儀器介紹：
在鍍膜或刻蝕的過程中，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)樣品膜的膜厚以及光學(xué)常數(shù)（n，k）變化。
技術(shù)參數(shù)：
·可實(shí)現(xiàn)快速、實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)樣品膜層變化
主要特點(diǎn)：
將激發(fā)和探測(cè)頭引入生產(chǎn)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn):
· 動(dòng)態(tài)模式:實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜厚變化
· 光譜模式：監(jiān)測(cè)薄膜的界面和組分
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