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KDP、PHN、PHE系列濕法研磨機(jī)
KDP、PHN、PHE系列濕法研磨機(jī)

參考價(jià)格

10-20萬(wàn)元

型號(hào)

KDP、PHN、PHE系列

品牌

派勒

產(chǎn)地

中國(guó)

樣本

暫無(wú)
廣東派勒智能納米科技股份有限公司

白金會(huì)員

|

第17年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 粉碎程度:

    超細(xì)粉碎
  • 單位能耗:

  • 產(chǎn)量:

  • 裝機(jī)功率(kw):

  • 成品細(xì)度:

  • 入料粒度(mm):

  • 工作原理:

    介質(zhì)研磨
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派勒系列納米銷(xiāo)棒式砂磨機(jī) 是PUHLER公司開(kāi)發(fā)大流量循環(huán)臥式砂磨機(jī),為新型 納米研磨設(shè)備產(chǎn)品 , 能滿(mǎn)足各類(lèi)面漆,納米產(chǎn)品對(duì)細(xì)度指標(biāo)的要求, 適用于連續(xù)分散和濕磨微米和納米級(jí)低粘度至高粘度材料。 產(chǎn)品粒度分布窄,PHN采用**縫隙分離器系統(tǒng),超大過(guò)濾面積,滿(mǎn)足了各類(lèi)高檔面漆生產(chǎn)所需要的大流量多次研磨的要求。PHN 的流量是傳統(tǒng)砂磨機(jī)的幾倍,分離器不受磨損,使用壽命長(zhǎng)可以使用極小的研磨介質(zhì)(0,1mm ), 也不會(huì)堵塞出料過(guò)濾器.


派勒新型徑向研磨機(jī)為料漿流動(dòng)方向與轉(zhuǎn)子離心方向一致的新型研磨機(jī)。用球只有0.05~0.8mm小球作研磨介質(zhì)的臥式高效研磨機(jī),將物料短時(shí)間內(nèi)研磨至300~600納米,粒度分布狹窄而集中,屬全球**!**。

中文內(nèi)容簡(jiǎn)介

PUHLER 全新型徑向研磨機(jī)在全球知名的研磨系統(tǒng)上做了進(jìn)一步的研發(fā)并取得**局批準(zhǔn),全封閉式,短/粗型的研磨腔設(shè)計(jì)元素,3:9之黃金分割比例的長(zhǎng)度/直徑/線速度系數(shù)比更佳,高能密度能量輸入,并將其**合理組合,為您提供更經(jīng)濟(jì)的濕法研磨技術(shù); 

新型徑向研磨機(jī)對(duì)于研磨大批量物料來(lái)說(shuō)是*為經(jīng)濟(jì)的選擇,相對(duì)于其它研磨設(shè)備,設(shè)備的投入與磨介的選擇成本都低。另外,該機(jī)型的優(yōu)點(diǎn)是可以得到比其他機(jī)型更細(xì)更窄的粒度分布,能夠連續(xù)處理大量的漿料,還可在研磨過(guò)程中隨時(shí)向預(yù)混缸內(nèi)加入物料組份,并且因?yàn)闈{料經(jīng)過(guò)研磨室的時(shí)間只有短短的15-25秒,所以可以得到精確的溫度控制。  
?   通過(guò)采用高效分離系統(tǒng)使得即使在非常高的流量下仍能保證研磨珠的安全分離,極大尺寸的筒式離心分離器篩網(wǎng)使得流動(dòng)阻力(即壓降)*?。?nbsp;
?    對(duì)于化妝品,制藥,食品和生化工程行業(yè),派勒PUHLER能夠提供完全用不銹鋼制造的磨機(jī)和一些特殊的裝置滿(mǎn)足客戶(hù)的特殊需要。以下是一些介紹如何滿(mǎn)足個(gè)別客戶(hù)的特殊需求的例子: 
?    機(jī)架采用不銹鋼,并用顆粒度160打磨處理 
?    機(jī)械密封液使用溶劑配置 
?    清洗液容器以及冷卻盤(pán)旋管及管接頭都采用不銹鋼 
?    與產(chǎn)品接觸的磨損部件材料是氧化鋯 
?    渦輪采用氧化鋯材質(zhì) 
?    產(chǎn)品進(jìn)口和出口采用快速加緊裝置連接 
?    冷卻回路能夠適應(yīng)從-15°C至 110°C的冷卻/加熱介質(zhì) 
?    探針式溫度表(PT 100)和壓力表 
?    水冷式的主電機(jī)

派勒全新型徑向研磨機(jī):主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細(xì)研磨及分散:
1) Color paste / Color filter / TFT LCD  :R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級(jí),透明度需超過(guò)90%,粘度控制在 5-15 CPS,含水率在1%以下。
2) Ink-jet Inks:顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級(jí),粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry:半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)


創(chuàng)新點(diǎn)

研磨方便,易清洗,可密閉,物料顆粒均勻度好。

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

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10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

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  • KDP、PHN、PHE系列濕法研磨機(jī)的工作原理介紹?
  • KDP、PHN、PHE系列濕法研磨機(jī)的使用方法?
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KDP、PHN、PHE系列濕法研磨機(jī)信息由廣東派勒智能納米科技股份有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于KDP、PHN、PHE系列濕法研磨機(jī)報(bào)價(jià)、型號(hào)、參數(shù)等信息,歡迎來(lái)電或留言咨詢(xún)。
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