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日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠**限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品高度：20 mm
特點：
采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件
規(guī)格：
| 項目 | 說明 | |
| 放電 | 類型 | 磁控二極管放電型（電場垂直于磁場） |
| 電極組成 | 反向平行盤（嵌入磁鐵） | |
| 電壓 | **0.4Kv DC（直流可變） | |
| 電流 | **40mA DC | |
噴鍍速率(**）[條件] 壓力：7Pa 放電電流:40mA 標靶與樣品表面之間的距離:20mm | Pt靶(選配件) | 15nm/min |
| Pt-Pd靶（選配件） | 20nm/min | |
| Au靶(選配件) | 35nm/min | |
| Au-Pd靶（選配件） | 25nm/min | |
| 樣品尺寸 | **直徑 | Ф60mm |
| **高度 | 20mm | |
| 機械泵 | 135/162 L/min(50/60Hz) | |
| 靶材﹡2 | Pt， Pt-Pd (8: 2)， Au， Au-Pd(6: 4) | |
| 電源要求 | 單相，100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線纜(3m) | |
| 尺寸 | 寬度 | 450mm |
| 長度 | 391mm | |
| 高度 | 390mm | |
| 重量 | 主機:約25Kg 機械泵:約28kg | |
﹡1：噴鍍速率僅供參考 ﹡2：主機內(nèi)不包括靶材。請從選項中選擇（鉑，鉑-鈀，金，金-鈀) | ||
暫無數(shù)據(jù)！
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