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【SuPro】ISC150 T高真空離子濺射儀
【SuPro】ISC150 T高真空離子濺射儀

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ISC150離子濺射儀升級版本,采用無油隔膜泵+分子泵獲得高真空環(huán)境,保證樣品噴金處理過程不會產(chǎn)生二次污染。特別適用于追求高分辨率FE-SEM樣品的噴金噴鉑,EDS和EBSD噴碳,光電薄膜制備,電極材料制備及其他金屬鍍膜用途。

本離子濺射儀主要的特點就是“無油,高真空”,制備薄膜純度更高,薄膜質(zhì)量更優(yōu);并且能夠在超凈間內(nèi)使用。

另外附加原位等離子清洗選配模塊,針對SEM樣品清除碳氫污染(有機物積碳污染),實現(xiàn)樣品表面活化和親水化處理。

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