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電鏡腔等離子清潔儀（遠(yuǎn)程等離子清潔儀）

美國PIE出品的EM-KLEEN型遠(yuǎn)程等離子清潔儀，廣泛用于SEM掃描電鏡，F(xiàn)IB聚焦離子束雙束電鏡，TEM透射電鏡，XPS_X射線光電子能譜分析儀，ALD原子層沉積系統(tǒng)，CD-SEM， EBR， EBI， EUVL和其它高真空系統(tǒng)，可同時清潔真空腔室和樣品！

污染物對電子顯微鏡SEM/TEM和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響

潤滑劑、真空脂、泵油樣品中的高分子聚合物，或未經(jīng)處理的空氣都會把碳?xì)湮廴疚镆秸婵障到y(tǒng)中。低蒸汽壓下高分子重污染物會凝聚在樣品表面和腔室壁上，而使用普通氣體吹掃方法很難把碳?xì)湮廴疚锴宄?/span>

電子和高能光子(EUV， X-ray)能夠分解存在于真空系統(tǒng)中或樣品上的碳?xì)湮廴疚?。碳?xì)浠衔锏姆纸猱a(chǎn)物沉積在被觀測的樣品表面或電子光學(xué)部件上。這種碳?xì)湮廴境练e會降低EUV的鏡面反射率，降低SEM圖像對比度和分辨率，造成錯誤的表面分析結(jié)果，沉積在光闌或其它電子組件的不導(dǎo)電碳?xì)湮廴疚锷踔習(xí)斐呻娮邮恢没蚓劢咕徛?。?/span>ALD系統(tǒng)中，樣品表面的碳?xì)湮廴疚镞€會降低薄膜的界面匹配質(zhì)量。

遠(yuǎn)程等離子清潔的原理

遠(yuǎn)程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上，控制器向遠(yuǎn)程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發(fā)等離子體，分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基，活性基會擴(kuò)散到下游的真空腔室，并與其中的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物能輕易地被抽走。遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)可同時清潔真空系統(tǒng)和樣品。

技術(shù)特點(diǎn)：

• 快速清潔被污染的SEM樣品。2-60秒氫等離子體清潔ALD樣品。不需減速或關(guān)閉渦輪分子泵

• 低等離子偏壓設(shè)計減少離子濺射和顆粒生成。結(jié)合自有**多級氣體過濾技術(shù)，SEMI-KLEEN能夠滿足用戶*苛刻的顆粒污染清除要求

• 可選藍(lán)寶石管腔體和耐腐蝕性氣體的流量控制器，以便支持CF4， NF3， NH3， HF， H2S等應(yīng)用

• 特有的等離子強(qiáng)度傳感器可實(shí)時監(jiān)測等離子狀態(tài)，用戶對等離子狀態(tài)一目了然

• 基于壓力傳感回饋控制的自動電子流量控制器，無需手動調(diào)節(jié)針閥

• 直觀的觸摸屏操作，可定義60條清洗程序方案

• 擁有智能安全操作模式和專家控制模式；SmartSchedule^TM定時裝置，通過檢測樣品裝載次數(shù)或時間間隔來定時清潔系統(tǒng)

• 低電磁干擾設(shè)計，安靜的待機(jī)模式

除了EM-KLEEN型遠(yuǎn)程等離子清潔儀之外，另有SEMI-KLEEN quartz型和SEMI-KLEEN sapphire型遠(yuǎn)程等離子清潔儀可供選購，三款主要應(yīng)用范圍如下：

EM-KLEEN：SEM， FIB， TEM， XPS， SIMS， AES

SEMI-KLEEN quartz：SEM， FIB， TEM， CD-SEM， EBR， EBI， XPS， SIMS， AES

SEMI-KLEEN sapphire：ALD， EUVL， for NF3， CF4， NH3， H2， HF， H2S plasma

請根據(jù)您需要的應(yīng)用選擇合適的型號和配置。