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又名：掩膜對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機等；
全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩膜對準(zhǔn)光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上*早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；依優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
相關(guān)設(shè)備：
甩膠機，甩膜機，涂膠機，旋轉(zhuǎn)涂膜機，勻膜機，清洗機，顯影機等；
技術(shù)參數(shù)：
基片尺寸：4、6、8、12、25英寸，其他要求支持；
光束均勻性：<±3%；
曝光時間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒；
對準(zhǔn)精度：1微米，**0.5微米；
分辨率：1微米；
光束輸出強度：15-25mW/cm2；
主要特點：
光源強度可控；
紫外、深紫外曝光；
系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制；
曝光模式：真空接觸模式（接觸力可調(diào)），Proximity靠近模式， 投影模式；
真空吸盤范圍可調(diào)；
**技術(shù)：雙面對準(zhǔn)！
雙重顯微鏡系統(tǒng)，**放大1600倍；
暫無數(shù)據(jù)！
光刻機/曝光機的工作原理介紹？光刻機/曝光機的使用方法？光刻機/曝光機多少錢一臺？光刻機/曝光機使用的注意事項光刻機/曝光機的說明書有嗎？光刻機/曝光機的操作規(guī)程有嗎？光刻機/曝光機的報價含票含運費嗎？光刻機/曝光機有現(xiàn)貨嗎？光刻機/曝光機包安裝嗎？
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