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·顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的圖案投影曝光設(shè)備，其不需要掩模。（無掩模曝光裝置）
·使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀，在涂有抗蝕劑的基板上投射幾微米分辨率的任何圖案并進(jìn)行曝光。
·可以在個人計算機上自由創(chuàng)建圖案。
·因為可以在大氣中各種尺寸和形狀的層狀材料的單晶薄板上形成電極。比電子束光刻更便宜和容易，也不需要 制造昂貴的電極圖案掩模。（當(dāng)分辨率約為幾微米就足夠了）
主要用途：電極形成薄膜FET和霍爾效應(yīng)測試樣品的的電極形成，從石墨烯/鉬粗糙原石中取出剝離的（?。┢⒃u估原石特性的電極形成。向研發(fā)應(yīng)用的模式形成 特點：由于顯微鏡和DLP的結(jié)合，可以比現(xiàn)有的無掩模曝光設(shè)備更低成本的去構(gòu)建系統(tǒng)
易于使用的專用軟件可以輕松創(chuàng)建曝光模式
利用物鏡的放大倍數(shù)，可以從精細(xì)圖案到大面積的一次性曝光
能做到幾微米的分辨率（幾微米的圖案模式）
曝光范圍： **2.5mm×1.5mm
*小100μｍ×60μｍ
※和ARM300顯微鏡配套時候的數(shù)値
Cmount0.57X使用時
暫無數(shù)據(jù)！
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