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德國Parcan（Nano analytik)掃描針尖電子束光刻機(jī)SPL
簡介：
公司以全球****的針尖技術(shù)為核心競爭力，技術(shù)源自于德國伊爾默瑙工業(yè)大學(xué)，致力于主動(dòng)式針尖技術(shù)在微納米結(jié)構(gòu)制備和表征方面的研發(fā)，及其相關(guān)設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化。
公司研制一套基于掃描針尖低能電子場發(fā)射的原理、采用壓阻式微納米針尖和多維納米定位與測量技術(shù)、在半導(dǎo)體器件材料表面制造尺寸小于5納米線寬結(jié)構(gòu)的高性能微納加工系統(tǒng)。公司致力于為微納米制造企業(yè)提供制備微納米功能結(jié)構(gòu)和功能器件（比如**速且*省電的基于單電子器件的芯片）的高性能設(shè)備和技術(shù)服務(wù)。
技術(shù)特點(diǎn)：
。場發(fā)射低能電子束
。大幅降低電子束背底散射
。幾乎消除電子束臨近效應(yīng)
。光刻5納米以下單線寬結(jié)構(gòu)
。光刻結(jié)構(gòu)間距小于2納米
。接近原子級分辨的套刻精度
。線寫速度高達(dá) 300 μm/s
。大氣環(huán)境下可實(shí)現(xiàn)正負(fù)光刻
。正光刻流程無需顯影步驟
。無需調(diào)制電子束聚光
。大范圍分步重復(fù)工藝
。Mix & Match 混合光刻模式
。針尖曝光與結(jié)構(gòu)成像實(shí)時(shí)進(jìn)行
。真空原位觀測光刻圖案
暫無數(shù)據(jù)！
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