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英國Durham小型臺式無掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3
英國Durham小型臺式無掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

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英國Durham小型臺式無掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3

小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設(shè)計開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板 的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

為了更好滿足客戶需求,同時節(jié)省客戶采購成本,第三代Microwriter分為三個型號,基本型,增強(qiáng)型,旗艦型:

產(chǎn)品特點

Focus Lock自動對焦功能

Focus lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進(jìn)行探測,并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償,

以保證曝光分辨率。

光學(xué)輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。

Z向**精度100 nm,方便快捷。

標(biāo)記物自動識別

點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標(biāo)記。

標(biāo)記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

別直寫前預(yù)檢查

軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實時調(diào)整位置、角度,

直到設(shè)計圖形按要求與有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。

簡單的直寫軟件

MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計、

基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩模圖形設(shè)計軟件

•可以讀取多種圖形設(shè)計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

•可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

•書寫范圍只由基片尺寸決定

直寫分辨率1μm

直寫分辨率0.6μm

微電極制備

微結(jié)構(gòu)制備

微流通道制備

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