參考價(jià)格
面議型號(hào)
品牌
產(chǎn)地
德國樣本
暫無看了Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)的用戶又看了
留言詢價(jià)
虛擬號(hào)將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號(hào)
Sentech 集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)
高產(chǎn)量
等離子蝕刻和沉積腔體可以與多達(dá)兩個(gè)片盒站組合，用于到200 mm晶片的高產(chǎn)量工藝。
研發(fā)
三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/或真空片盒站加載。
SENTECH多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預(yù)真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機(jī)械手臂，可適用于三至六個(gè)端口?？梢允褂枚噙_(dá)兩個(gè)片盒站來增加產(chǎn)量。傳送腔室可以配備多種選擇。
用于研發(fā)的SENTECH多腔系統(tǒng)通過圖形用戶界面控制軟件操作。強(qiáng)大的控制軟件可用于工業(yè)領(lǐng)域高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)。
高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)
ICP-RIE等離子刻蝕腔體可與兩個(gè)片盒站組合用于200mm晶片的高產(chǎn)量并行工藝。
用于研發(fā)的多腔系統(tǒng)
ICP-RIE，RIE，PECVD和ICPECVD等腔體可與預(yù)真空室，片盒站等組合使用，以滿足研發(fā)的特殊要求。
暫無數(shù)據(jù)！
Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)的工作原理介紹？Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)的使用方法？Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)多少錢一臺(tái)？Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)使用的注意事項(xiàng)Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)的說明書有嗎？Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)的操作規(guī)程有嗎？Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎？Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)有現(xiàn)貨嗎？Sentech集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)包安裝嗎？
手機(jī)版：
工商已核實(shí)
