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技術(shù)參數(shù)：

ARL Quant’X 熒光能譜儀

應對RoHS指令 ――快速分析

超大Si(Li) 晶體，具有極高的痕量分析的靈敏度，打破lng的檢測限壁壘

全數(shù)字脈沖處理器技術(shù)，死時間達60%， 以及優(yōu)異的峰背比

高級FP無標樣分析軟件，進行無標樣分析，減少對標樣的依賴性

高靈敏電制冷Si(Li) 探測器技術(shù)， 儀器免維護和零費用運行

超大樣品室，可容納300mm*(乘號)400mm的樣品

全自動校準，自動監(jiān)測，自動報警系統(tǒng)，完全計算機控制

鍍層和薄膜測量技術(shù)， 具有無標樣分析測厚技術(shù)

主要特點：

ARL Quant’X 熒光能譜儀

具有廣泛的應用如:ROHS-WEEE電子廢棄物中重元素分析，各種合金及貴金屬成分分析，環(huán)境污染氣溶膠的測度， 考古文物保護，刑偵痕量分析，營養(yǎng)品分析，磁性介質(zhì)和半導體的薄膜渡層厚度分析，各種油品中成分分析，納米至微米鍍層厚度測量，土壤，催化劑，礦石，原材料等.

用于材料的無損分析可選擇液氮致冷或電致冷Si(Li) 探測器 從氟至鈾的多元素分析測定的濃度范圍一般可以從ppm級至100% 技術(shù)參數(shù)