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面議型號(hào)
Agar鍍膜儀噴金儀B7341品牌
牛津產(chǎn)地
英國樣本
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【技術(shù)參數(shù)】
樣品室玻璃腔體尺寸 | 120mm ? x 120mm H，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)（可選150mm x 165mm） |
樣品臺(tái)尺寸 | 可放置12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)釘形樣品臺(tái)，高度可在 60mm內(nèi)調(diào)節(jié) |
濺射頭 | 低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 |
濺射靶材 | 金（標(biāo)配），鉑，金/鈀，鉑/鈀, 銀等 |
靶材尺寸 | 直徑57mm x 0.1mm 厚度 |
濺射控制系統(tǒng) | 微處理器控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；**電流40mA，程序化數(shù)字控制； 提供真空安全聯(lián)鎖裝置，配有過流保護(hù)； |
模擬計(jì)量 | 真空 Atm - 0.001mb 電流: 0 – 50mA |
控制方式 | 自動(dòng)氣體換氣和放氣功能，帶有“暫?！笨刂频臄?shù)字定時(shí)器（0－300s） |
機(jī)械泵 | 2L/s |
工作媒介氣體 | 氬氣，純度*低99.9% |
工作電壓 | 220V, 50/60HZ |
膜厚監(jiān)控儀（選配） | 通過6MHz石英晶體進(jìn)行原位監(jiān)控，顯示納米級(jí)厚度，可精確到0.1nm |
適用配套 | Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等掃描電鏡 |
【產(chǎn)品詳情】
Agar 全自動(dòng)噴金儀（離子濺射儀）為英國進(jìn)口設(shè)備，操作簡(jiǎn)單，適用于掃描電鏡樣品制備，可噴金、鉑、金/鈀、鉑/鈀、銀等。
噴金儀使用小貼士：
1）需要濺射噴金的樣品
a)**類樣品是電子束敏感的樣品，主要包括生物樣品，塑料樣品等。SEM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料，那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用，防止此類損傷；
b)另一類樣品是非導(dǎo)電的樣品，由于樣品不導(dǎo)電，其表面帶有“電子陷阱”，這種表面上的電子積累被稱為“充電”。為了消除荷電效應(yīng)，可在樣品表面鍍一層金屬導(dǎo)電層，鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電通道，將充電電子從材料表面轉(zhuǎn)移走，消除荷電效應(yīng)。在掃描電鏡成像時(shí)，濺射材料可以增加信噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量。
2)濺射材料
常用的濺射材料為金，導(dǎo)電性高。
噴金儀的真空度越高，所濺射的金屬顆粒越小，可以減少樣品表面形貌失真的情況。當(dāng)需要超高分辨率成像時(shí)，**高真空噴金儀，同時(shí)還可以選用其他濺射材料，如：鉻，銥等，濺射的晶粒更細(xì)小。
此外，如果需要做EDS能譜分析的話，建議選擇噴碳儀，因碳的X射線峰不會(huì)與其他元素的峰值發(fā)生沖突。
金靶材：
膜厚監(jiān)控儀：
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