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面議型號
SU8700品牌
日立產(chǎn)地
日本樣本
暫無分辨率：
0.8 nm@15 kV探測器：
鏡筒內(nèi)背散射電子探測器加速電壓：
0.1 ~ 30 kV電子槍：
肖特基場發(fā)射電子源電子光學放大：
20 ~ 2,000,000 x光學放大：
20 ~ 2,000,000 x看了超高分辨肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8700的用戶又看了
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隨著快速數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理技術(shù)的發(fā)展，電子顯微鏡進入了一個不僅重視數(shù)據(jù)質(zhì)量，而且注重其采集過程的時代。SU8700作為一款面向新時代的SEM，在日立電鏡貫有的高圖像質(zhì)量和高穩(wěn)定性的基礎(chǔ)上，增加了包括自動獲取數(shù)據(jù)等高通量的功能。
日立的高亮度肖特基場發(fā)射電子槍可同時支持超高分辨觀察和快速微束分析。在不使用樣品臺減速的情況下，僅用0.1 kV的低加速電壓仍可進行高分辨觀察，適應更多應用場景。同時，可搭配多種新型探測器和其他豐富的選配項，滿足更多的觀測需求。
EM Flow Creator 允許客戶創(chuàng)建連續(xù)圖像采集的自動化工作流程。EM Flow Creator將不同的SEM功能定義為圖形化的模塊，如設置放大倍率、移動樣品位置、調(diào)節(jié)焦距和明暗對比度等。用戶可以通過簡單的鼠標拖拽，將這些模塊按邏輯順序組成一個工作程序。經(jīng)過調(diào)試和確認后，該程序便可以在每次調(diào)用時自動獲得高質(zhì)量、重現(xiàn)性好的圖像數(shù)據(jù)。
原生支持雙顯示器，提供靈活、高效的操作空間。
6通道同時顯示與保存，實現(xiàn)快速的多信號觀測與采集，帶來更多信息。
單次掃描**支持 40,960×30,720 的超高像素*
| 電子光學系統(tǒng) | 二次電子分辨率 | 0.8 nm@15 kV |
|---|---|---|
| 0.9 nm@1 kV | ||
| 放大倍率 | 20 ~ 2,000,000 x | |
| 電子槍 | 肖特基場發(fā)射電子源 | |
| 加速電壓 | 0.1 ~ 30 kV | |
| 著陸電壓*1,*3 | 0.01 ~ 7 kV | |
| **束流 | 200 nA | |
| 探測器 | 標配探測器 | 上探測器（UD） |
| 下探測器（LD） | ||
| 選配探測器*3 | 鏡筒內(nèi)背散射電子探測器（MD） | |
| 半導體式背散射電子探測器（PD-BSE） | ||
| 高靈敏低真空探測器（UVD） | ||
| 掃描透射探測器（STEM） | ||
| 選配附件*2 | X射線能譜儀（EDS） | |
| 電子背散射衍射探測器(EBSD) | ||
| 樣品臺 | 馬達驅(qū)動軸 | 5軸馬達驅(qū)動 |
| 移動范圍 | ||
| X | 0 ~ 110 mm | |
| Y | 0 ~ 110 mm | |
| Z | 1.5 ~ 40 mm | |
| T | -5 ~ 70° | |
| R | 360° | |
| 樣品室 | 樣品尺寸 | **直徑：150 mm*4 |
| 低真空模式 | 真空范圍 | 5 ~ 300 Pa |
暫無數(shù)據(jù)！
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移動端
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