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膜厚量測儀 FE-300
膜厚量測儀 FE-300

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

FE-300

品牌

大塚電子

產(chǎn)地

江蘇

樣本

暫無
大塚電子(蘇州)有限公司

會(huì)員

|

第6年

|

生產(chǎn)商

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特 長

薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜量測儀

藉由**反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000高端機(jī)種90%的強(qiáng)大功能

無復(fù)雜設(shè)定,操作簡單,短時(shí)間內(nèi)即可上手

線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

測量項(xiàng)目

  • **反射率測量

  • 膜厚解析(10層)

  • 光學(xué)常數(shù)解析(n:折射率、k:消光系數(shù))

產(chǎn)品規(guī)格


FE-300V

FE-300UV

FE-300NIR※1

對(duì)應(yīng)膜厚

標(biāo)準(zhǔn)型

薄膜型

厚膜型

超厚膜型

樣品尺寸

**8寸晶圓(厚度5mm)

膜厚范圍

100nm ~ 40μm

10nm ~ 20μm

3μm ~ 300μm

15μm ~ 1.5mm

波長范圍

450nm ~ 780nm

300nm ~ 800nm

900nm ~ 1600nm

1470nm ~ 1600nm

膜厚精度

±0.2nm以內(nèi)※2

-

重復(fù)再現(xiàn)性(2σ)

±0.1nm以內(nèi)※3

-

測量時(shí)間

0.1s ~ 10s以內(nèi)

量測口徑

約φ3mm

光源

鹵素?zé)?/p>

UV用D2燈

鹵素?zé)?/p>

鹵素?zé)?/p>

通訊界面

USB

尺寸重量

280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg

軟體功能

標(biāo)準(zhǔn)功能

波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析

選配功能

材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準(zhǔn)片解析

※1 請(qǐng)于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對(duì)比VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si)同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)再現(xiàn)性。(擴(kuò)充系數(shù)2.1)

應(yīng)用范圍

半導(dǎo)體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
光學(xué)薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

測量范例

  • PET基板上的DLC膜

  • item_0005FE-300_sub001.gif

  • Si基板上的SiNx

    item_0005FE-300_sub002.gif



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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

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評(píng)論內(nèi)容
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