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納米氧化鋁水性漿料研磨機(jī)
納米氧化鋁水性漿料研磨機(jī)

參考價(jià)格

10-20萬元

型號(hào)

CMSD2000

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國(guó)

樣本

暫無
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

金牌會(huì)員

|

第15年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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電話詢價(jià)
核心參數(shù)
  • 粉碎程度:

    超細(xì)粉碎
  • 單位能耗:

    0-10
  • 產(chǎn)量:

    300-60000
  • 裝機(jī)功率(kw):

    4
  • 成品細(xì)度:

    0-0.2
  • 入料粒度(mm):

    0-100
  • 工作原理:

    自磨
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均勻分散不沉降,氧化鋁水性漿料納米研磨分散機(jī),活性氧化鋁超微研磨分散機(jī),氧化鋁高速納米分散,納米氧化鋁油分散液,氧化鋁微球乳化機(jī),氧化鋁乳膠分散機(jī),大孔容氧化鋁微球研磨分散機(jī),氧化鋁乳膠,氧化鋁陶瓷基片研磨分散

IKN研磨分散具有設(shè)計(jì)緊湊、實(shí)用新型,外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡(jiǎn)單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點(diǎn)、是處理精細(xì)物料*理想的加工設(shè)備。

 氧化鋁的核心應(yīng)用

 氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機(jī)膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

 

氧化鋁的分散問題

 近年來,已將超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大,表面活性高,單個(gè)超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),顆粒之間因?yàn)橄嗷ノ鴪F(tuán)聚,易于失去超細(xì)粉體特有的性能,因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散,是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

 在水溶液中,氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚,出現(xiàn)絮凝,分層等現(xiàn)象,破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點(diǎn)。影響穩(wěn)定性的因素有很多,如:分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

 當(dāng)物料工藝確定后,影響分散穩(wěn)定性的**因素就是漿料中粒子的半徑,半徑越小,沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備,來獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦CMSD2000系列研磨分散機(jī),獨(dú)特的結(jié)構(gòu),膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,14000rpm超高轉(zhuǎn)速,效果好、效率高。

 

 結(jié)合多家化工企業(yè)案例,我司推薦CMSD2000系列研磨式超高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁的研磨和分散,一般可獲得超細(xì)的物料粒徑,一般為1μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態(tài)。不同分散介質(zhì)與濃度設(shè)備選型、效果有所不同,歡迎來電咨詢。

 

微信圖片_20240509083002.jpg

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計(jì)算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

 

CMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

產(chǎn)品系列型號(hào)標(biāo)準(zhǔn)流量
L/H
輸出轉(zhuǎn)速
rpm
標(biāo)準(zhǔn)線速度
m/s
馬達(dá)功率
kW
出入口連接尺寸
CMSD20002000/04300 14,000 414DN25/DN15
2000/051,000 10,500 4111DN40/DN32
2000/104,000 7,200 4130DN50/DN50
2000/2010,000 4,900 4145DN80/DN65
2000/3020,000 2,850 4190DN150/DN125
2000/5060,000 1,100 41160DN200/DN150

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%


均勻分散不沉降,氧化鋁水性漿料納米研磨分散機(jī),活性氧化鋁超微研磨分散機(jī),氧化鋁高速納米分散,納米氧化鋁油分散液,氧化鋁微球乳化機(jī),氧化鋁乳膠分散機(jī),大孔容氧化鋁微球研磨分散機(jī),氧化鋁乳膠,氧化鋁陶瓷基片研磨分散

創(chuàng)新點(diǎn)

IKN研磨分散具有設(shè)計(jì)緊湊、實(shí)用新型,外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡(jiǎn)單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點(diǎn)、是處理精細(xì)物料最理想的加工設(shè)備。

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10分

易用性

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評(píng)論內(nèi)容
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