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化學(xué)氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，CVD）是應(yīng)用氣態(tài)物質(zhì)在固體上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)和傳輸反應(yīng)等并產(chǎn)生固態(tài)沉積物的一種工藝。安徽貝意克多年來堅持在技術(shù)和產(chǎn)品方面持續(xù)創(chuàng)新，最新研發(fā)BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型連續(xù)進出料CVD設(shè)備，為您提供了一種全新的解決方案，告別低效燒制，貝意克助您邁向連續(xù)進出料CVD時代！

高效率：設(shè)備在使用過程中，可以在加熱爐不停止加熱的情況下，連續(xù)進料、出料；與常規(guī)加熱設(shè)備相比，省去了因加熱爐升溫、降溫過程中等待的時間，極大的提高了設(shè)備的使用效率。

操作便捷：左右進出料采用智能推拉機構(gòu)，可實現(xiàn)真空或惰性氣體保護下將載具推送進高溫爐或?qū)⑤d具拉離高溫爐，操作更方便。

安全、低能耗：設(shè)備表面溫度＜60℃，有效保護科研人員和材料；省去多次升溫頻率，能耗低節(jié)能更環(huán)保，適合工業(yè)化生產(chǎn)。

貝意克智能型連續(xù)進出料CVD設(shè)備包含主要由七大部分，進料腔，大口徑管式爐、出料腔、推拉機構(gòu)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、以及自動化控制軟件組成。廣泛應(yīng)用于納米材料、半導(dǎo)體、金屬材料、特種陶瓷等新材料研發(fā)。

BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型連續(xù)進出料CVD設(shè)備

特征

進/出料腔

我們設(shè)備的左側(cè)進料腔和右側(cè)的進料腔均配有一個16mm的推料桿，可以實現(xiàn)真空或惰性氣體保護下推送載具進入高溫爐內(nèi)；進料腔右側(cè)法蘭通過氣動插板閥與高溫爐鏈接和隔斷，可以實現(xiàn)進料腔和高溫管式爐相互獨立工作，互不干擾。

高溫生長爐

該設(shè)備是大口徑管式爐采用優(yōu)質(zhì)電阻絲加熱，最高使用溫度可達1100℃，加熱區(qū)長度為150+300+150mm，采用3段控溫且每段上下兩點控溫的方式，可有效提高溫差均勻性；同時系統(tǒng)設(shè)置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經(jīng)驗的要求。

智能推拉機構(gòu)

進料腔左側(cè)密封法蘭上配有推料桿及軌道；出料腔右側(cè)密封法蘭上配有拉料桿及軌道；可以實現(xiàn)真空或惰性氣體保護下將載具推送進高溫爐或?qū)⑤d具拉離高溫爐，智能推拉機構(gòu)，操作更為便捷。

三路供氣系統(tǒng)可自由調(diào)節(jié)流速可混氣

該設(shè)備包含3部分供氣系統(tǒng)，進料腔配備1路質(zhì)量流量計惰性氣體供氣裝置，高溫生長爐配備1路質(zhì)量流量計惰性氣體混氣裝置，出料腔配備1路質(zhì)量流量計惰性氣體供氣裝置；共計5路質(zhì)量流量計。（可按客戶需求定制真空系統(tǒng)）

三套真空系統(tǒng) 按客戶需求定制

該設(shè)備的進料腔配備1套機械泵（機械泵抽速16m3/h、型號DRV-16），高溫生長爐1套機械泵（機械泵抽速24m3/h、型號DRV-24），出料腔配備1套機械泵（機械泵抽速16m3/h、型號DRV-16）。

彩色觸摸屏數(shù)字控制系統(tǒng)

采用觸摸屏自動控制，參數(shù)設(shè)置和操作直觀方便，可進行溫度、時間等參數(shù)快速設(shè)定；參數(shù)自動記錄保持，一鍵操作。具有人性化，直觀化，集成度高，控制工藝成熟，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，性價比高等優(yōu)點。

一站式服務(wù)規(guī)劃

量身打造的解決方案，個性化的建議

想要根據(jù)用戶的需求定制合適的產(chǎn)品，就要考慮到各種不同因素。我們?yōu)橛脩籼峁┤嬷С?，從產(chǎn)品下單到交付到售后運維的設(shè)備全生命周期內(nèi)服務(wù)，我們擁有業(yè)界領(lǐng)先的技術(shù)，始終如一的產(chǎn)品質(zhì)量；全面的客戶服務(wù)，經(jīng)驗豐富且專業(yè)的銷售和技術(shù)支持團隊；現(xiàn)場支持能力，貝意克銷售就在客戶身邊，隨時為客戶提供服務(wù)。

設(shè)備參數(shù) 

可按客戶需求定制