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納米二氧化硅分散機(jī)，納米二氧化硅超細(xì)研磨分散機(jī)，納米二氧化硅光觸媒分散機(jī)，納米二氧化硅混合分散機(jī)，納米二氧化硅在線式分散機(jī)，光觸媒分散機(jī)

IKN分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。設(shè)計(jì)獨(dú)特，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。

納米二氧化硅具有許多獨(dú)特的性質(zhì)，如具有對(duì)抗紫外線的光學(xué)性能，能提高其他材料抗老化、強(qiáng)度和耐化學(xué)性能。用途非常廣泛，如：電子封裝材料，樹脂復(fù)合材料，塑料，涂料，橡膠，顏（染）料，陶瓷，密封膠、粘結(jié)劑，玻璃鋼制品，藥物載體，化妝品，抗菌材料等。

 絕大部分的業(yè)內(nèi)人士并不知道氣相二氧化硅有許多品種。這主要是由于長期以來我國的膠衣和樹脂品種比較單一。但是，隨著多品種產(chǎn)品的開發(fā)，例如乙烯基樹脂，環(huán)氧改性樹脂，透明膠衣等的開發(fā)，單一的親水性的200比表面積的氣相二氧化硅已不能滿足用戶的需要，所以必須向用戶推薦更適合的產(chǎn)品。一般而言，氣相二氧化硅有親水性和疏水性兩大類。對(duì)于通用的鄰苯型和間苯型不飽和樹脂而言，一般使用親水性的產(chǎn)品，而對(duì)于極性樹脂而言，建議使用疏水性產(chǎn)品。此外，氣相二氧化硅的比表面積，樹脂苯乙烯含量，助劑，鈷鹽以及透明要求，添加順序等對(duì)氣相二氧化硅的使用也有相當(dāng)大的影響。在此希望用戶在使用氣相二氧化硅時(shí)，多詢問供應(yīng)商，以便選用更合適的材料和工藝。

    讓氣相二氧化硅有效發(fā)揮作用的關(guān)鍵是確保其在樹脂中獲得適當(dāng)?shù)姆稚?。分散設(shè)計(jì)越好，則有效性越好。對(duì)樹脂行業(yè)而言，氣相二氧化硅的分散可以使用多種方法，例如碾磨，高速剪切，球磨，砂磨，超聲波分散等等，其中前兩種方法使用的更多。

就主要的分散步驟而言也有兩種，即所謂的一步法和兩步法。一步法是指將氣相二氧化硅加入樹脂中直接得到所需要的一定含量的產(chǎn)品，一步法的特點(diǎn)是生產(chǎn)工藝簡單，比較適合大批量，產(chǎn)品單一的生產(chǎn)。兩步法是先將氣相二氧化硅以較高的比例分散到樹脂制成母料，然后再加入樹脂稀釋到一定的比例。兩步法的特點(diǎn)是由于體系粘度較高，分散時(shí)剪切力較大，氣相二氧化硅的分散較好，適合多品種生產(chǎn)。目前，國內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn)，有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后，分散時(shí)根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，無法發(fā)揮材料的性能。

因?yàn)閲鴥?nèi)基本采用3000轉(zhuǎn)的分散機(jī)，可能在實(shí)驗(yàn)室采用10000多轉(zhuǎn)分散效果好，但是到了工業(yè)化，問題出來了，分散效果不好，我們采用工業(yè)化9000高速分散機(jī)或者14000轉(zhuǎn)高速改進(jìn)型分散機(jī)效果好   9000轉(zhuǎn)分散機(jī)適合低粘度  14000轉(zhuǎn)改進(jìn)型研磨分散機(jī)是個(gè)高粘度

納米二氧化硅分散機(jī)，剪切速率可以超過10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布就更窄。

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)：

1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

ERS2000系列設(shè)備型號(hào)表

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