隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，半導(dǎo)體材料的革新速度也進(jìn)一步加快。當(dāng)前，碳化硅作為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表，在新能源汽車(chē)、光伏、儲(chǔ)能等新興領(lǐng)域正快速滲透，已成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的前沿和制高點(diǎn)。同時(shí)，我國(guó)“十四五”規(guī)劃已將碳化硅半導(dǎo)體納入重點(diǎn)支持領(lǐng)域，碳化硅半導(dǎo)體將在我國(guó)5G基站建設(shè)、特高壓、城際高速鐵路和城市軌道交通、新能源汽車(chē)充電樁、大數(shù)據(jù)中心等新基建領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。

近年來(lái)，我國(guó)在SiC材料領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，但與國(guó)際先進(jìn)水平相比，在晶體生長(zhǎng)技術(shù)、晶圓加工技術(shù)等方面仍存在一定差距。SiC晶體生長(zhǎng)過(guò)程中面臨著晶體缺陷控制、生長(zhǎng)速率提升、晶體質(zhì)量穩(wěn)定性等難題；晶圓加工方面，則存在加工精度不足、良品率低、加工成本較高等挑戰(zhàn)。在當(dāng)前倡導(dǎo)節(jié)能減排的大趨勢(shì)下，快速穩(wěn)定地突破碳化硅單晶尺寸和質(zhì)量等關(guān)鍵問(wèn)題，才能夠更好地占據(jù)未來(lái)碳化硅市場(chǎng)。

在此背景下，中國(guó)粉體網(wǎng)將于2025年8月21日在江蘇·蘇州舉辦第三代半導(dǎo)體SiC晶體生長(zhǎng)及晶圓加工技術(shù)研討會(huì)，大會(huì)將匯聚國(guó)內(nèi)行業(yè)專(zhuān)家、學(xué)者、技術(shù)人員、企業(yè)界代表圍繞晶體生長(zhǎng)工藝、關(guān)鍵原材料、生長(zhǎng)設(shè)備及應(yīng)用、碳化硅晶片切、磨、拋技術(shù)等方面展開(kāi)演講交流。北京匯德信科技有限公司作為參展單位邀請(qǐng)您共同出席。

自1999年成立以來(lái)，北京匯德信科技有限公司始終秉承“誠(chéng)信、專(zhuān)業(yè)、創(chuàng)新”的宗旨，將國(guó)際上先進(jìn)的納米科學(xué)技術(shù)設(shè)備引進(jìn)到國(guó)內(nèi)。我們與德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)、德國(guó)明斯特大學(xué)、德國(guó)斯圖加特大學(xué)、德國(guó)卡爾斯魯爾納米中心及德國(guó)Max-Planck研究所等知名科研院所有著緊密的合作，并系統(tǒng)地代理了Allresist(光刻膠)、Novocontrol（寬頻介電阻抗譜儀）、 Keller(紅外測(cè)溫儀)等多家國(guó)際知名高新技術(shù)企業(yè)產(chǎn)品。產(chǎn)品覆蓋了微納米制造、檢測(cè)、分析等相關(guān)領(lǐng)域。產(chǎn)品已經(jīng)被國(guó)內(nèi)眾多科研院所、大學(xué)及工業(yè)用戶(hù)使用，并得到用戶(hù)一致好評(píng)和認(rèn)可。

作為幾十家國(guó)際知名品牌的國(guó)內(nèi)獨(dú)家代理，匯德信已建立起以客戶(hù)為中心，為客戶(hù)解決科研需求的銷(xiāo)售團(tuán)隊(duì)和專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持隊(duì)伍。公司不定期地組織技術(shù)人員出國(guó)培訓(xùn)，提升技術(shù)水平，更好地為客戶(hù)提供技術(shù)解決方案。

基于長(zhǎng)期的合作信任關(guān)系及業(yè)務(wù)增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，2017年我們與德國(guó)Raith公司成立了合資企業(yè)，將電子束光刻機(jī)業(yè)務(wù)劃分出來(lái)，與廠商更緊密合作，共同努力為國(guó)內(nèi)用戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和服務(wù)。

2019年匯德信在常州成立分公司，獲得資質(zhì)專(zhuān)門(mén)銷(xiāo)售光刻膠產(chǎn)品。

匯德信將一如既往地為國(guó)內(nèi)用戶(hù)尋找國(guó)際領(lǐng)先的創(chuàng)新型產(chǎn)品，服務(wù)用戶(hù)，共創(chuàng)未來(lái)！

產(chǎn)品介紹

1、高分辨紫外/深紫外PHABLE光刻機(jī)（全息光刻系統(tǒng)）

EULITHA AG公司開(kāi)發(fā)的PHABLE大面積、低成本的納米圖形化方案，采用突破性的Displacement Talbot Lithography專(zhuān)利技術(shù)。相比傳統(tǒng)的電子束光刻、投影式光刻機(jī)、納米壓印等納米結(jié)構(gòu)方案中，遇到的生產(chǎn)效率、良率、生產(chǎn)成本等問(wèn)題，PHABLE光刻技術(shù)提供了高精度、高均勻性、低缺陷率、高產(chǎn)率的解決方案。

應(yīng)用領(lǐng)域：

照明、激光器、光通信、高端顯示、太陽(yáng)能、傳感器、仿生等。

特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)：

穩(wěn)定的納米級(jí)分辨能力；

大面積全域曝光，無(wú)需拼接；

無(wú)限制DOF，厚膠、表面翹曲無(wú)影響；

雙工作模式：
  全息光刻模式：周期性納米結(jié)構(gòu)；
  掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻模式：任意微米級(jí)結(jié)構(gòu)。

簡(jiǎn)化的曝光流程，可實(shí)現(xiàn)一鍵式曝光

靈活的客戶(hù)定制化方案

指標(biāo)：

2、Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀

Novocontrol GmbH是德國(guó)一家專(zhuān)業(yè)的電介質(zhì)頻率譜、阻抗譜、溫度譜等電介質(zhì)材料物理量測(cè)量?jī)x器的生產(chǎn)廠家，創(chuàng)立于1980年，其與馬克思•普朗克科學(xué)促進(jìn)學(xué)會(huì)多聚體研究所的科學(xué)家們聯(lián)合開(kāi)發(fā)研制出先進(jìn)的全系列寬頻介電阻抗譜儀(介電譜)。

Novocontrol的介電譜儀可以通過(guò)與Keysight高頻分析儀的結(jié)合達(dá)到很寬的頻率范圍（3μHz~3GHz）；能靈敏地測(cè)量極低電導(dǎo)率和極低損耗的材料（分辨率可達(dá)10-5）；具有極寬的阻抗分析范圍（10mΩ~100TΩ）；不但可以測(cè)量各種固體、薄膜材料，還可以測(cè)量液體，粉末等樣品材料；其自主研發(fā)的全自動(dòng)在線(xiàn)控制軟件可以實(shí)時(shí)進(jìn)行多達(dá)三十多種不同參數(shù)的測(cè)量與分析。

三種不同溫度范圍的溫度控制系統(tǒng)，可以滿(mǎn)足不同電介質(zhì)材料測(cè)量時(shí)對(duì)溫度范圍和控溫精度的不同要求，另外我們還提供溫度高達(dá)1200℃~1600℃的高溫爐系統(tǒng)，用于研究電介質(zhì)材料在高溫條件下的介電性能。

Novocontrol不但可提供完整的電介質(zhì)參數(shù)測(cè)量系統(tǒng)，也可根據(jù)客戶(hù)的需求提供相應(yīng)的部件，例如阻抗分析儀、樣品架、溫度控制系統(tǒng)和分析軟件等。也可以為用戶(hù)測(cè)量一定數(shù)量的實(shí)驗(yàn)樣品。

Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀不僅是實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)和研究新材料的重要測(cè)量手段，也是生產(chǎn)質(zhì)量控制和優(yōu)化生產(chǎn)工藝的強(qiáng)有力的工具。Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀廣泛應(yīng)用于化學(xué)、物理化學(xué)、電化學(xué)、電子、電工工程、半導(dǎo)體、材料科學(xué)、生物學(xué)和制藥等領(lǐng)域，特別是聚合物、樹(shù)脂、陶瓷、橡膠、玻璃、液晶、石油、懸浮體以及半導(dǎo)體晶片及器件等的研究。目前其用戶(hù)包括多個(gè)國(guó)家的科研院所和400多家國(guó)際企業(yè)。

主要產(chǎn)品和參數(shù)

一、介電與阻抗分析

二、溫度控制系統(tǒng)

溫度范圍為-160到400℃，可根據(jù)不同的需求選取不同的溫度范圍和控制精度。

會(huì)務(wù)組

聯(lián)系人：段經(jīng)理

電話(huà)：13810445572

郵箱：duanwanwan@cnpowder.com

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