中國粉體網(wǎng)訊 近日，國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，湖南皓志科技股份有限公司取得一項名為“一種碳化硅晶圓拋光用的球形納米氧化鋁拋光液”的專利，拋光液移除速率高、懸浮分散性能好。
化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有獨特的化學和機械相結(jié)合的效應，是在機械拋光的基礎(chǔ)上，根據(jù)所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果�；瘜W機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò)合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產(chǎn)生很大的影響。
目前市場上使用最為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。
但是，Al2O3磨粒在水溶液中由于靜電力等作用容易團聚成大顆粒膠團，出現(xiàn)絮凝分層等現(xiàn)象，導致拋光液穩(wěn)定性較差。
來源：皓志科技官網(wǎng)
湖南皓志科技股份有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的高新技術(shù)企業(yè)。公司專注于拋光材料，鍍膜材料和調(diào)光產(chǎn)品三大系列產(chǎn)品。其中拋光粉產(chǎn)品主要應用于液晶玻璃基板，手機蓋板，盤基片，精密光學玻璃等領(lǐng)域；研磨液、拋光液產(chǎn)品主要應用于半導體硅片、藍寶石襯底片、窗口片、高檔五金、手機外殼等領(lǐng)域；納米銀線系列產(chǎn)品應用于觸控面板、柔性顯示、薄膜太陽能電池等領(lǐng)域；調(diào)光系列產(chǎn)品應用于行政辦公場所、酒店、醫(yī)療機構(gòu)、銀行、商場以及高檔住宅、別墅等領(lǐng)域。
來源：皓志科技官網(wǎng)
皓志科技本次發(fā)明公開的一種碳化硅晶圓拋光用的球形納米氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5‑55、氧化劑0.05‑25、抑制劑0.1‑10、表面活性劑0.01‑12、分散劑0.01‑15、pH調(diào)節(jié)劑0.1‑10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。
此次發(fā)明的球形納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。
參考來源：
[1] 孟凡寧等，化學機械拋光液的研究進展
[2] 國家知識產(chǎn)權(quán)局、皓志科技官網(wǎng)、中國粉體網(wǎng)
（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）
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