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石英坩堝脫模劑
技術(shù)參數(shù)

貨號	平均粒徑（nm）	純度（%）	比表面積（m2/g）	體積密度g/cm3	振實密度g/cm3	形貌	顏色
YFT02-U08	800	>99.99	8	1.3	2.9	α相	灰白色

備注：根據(jù)用戶要求可提供不同粒度的產(chǎn)品。詳細資料請見產(chǎn)品文檔。
應用方向
石英坩堝脫模劑
主要應用于多晶硅和單晶熔煉過程中，石英坩堝脫模用。多晶硅和單晶硅生產(chǎn)時，在原料熔化、晶體生長過程中，硅熔體和坩堝長時間接觸會產(chǎn)生黏滯性。由于兩種材料的熱膨脹系數(shù)不同，如果硅材料和坩堝壁結(jié)合緊密，在晶體冷卻時很可能造成晶體硅或坩堝破裂。而硅熔體和坩堝的長時間接觸還會造成陶瓷坩堝的腐蝕，使多晶硅中的氧濃度升高。為了解決這些問題，國外工藝上一般采用高純氮化硅材料作為涂層附在坩堝的內(nèi)壁，隔離硅熔體和坩堝的直接接觸，不僅解決了黏滯問題，而且可以降低多晶硅中的氧、炭等雜質(zhì)濃度。利用定向凝固技術(shù)生長的鑄造多晶硅，多數(shù)情況下坩堝是消耗品，不能重復循環(huán)使用，即每爐多晶硅都需要消耗一只陶瓷坩堝。采用氮化硅涂層后可使石英陶瓷坩堝得到重復使用，大幅度降低生產(chǎn)成本我公司根據(jù)多晶硅和單晶硅生產(chǎn)工藝特點，開發(fā)銷售了石英坩堝專用脫膜劑及相關(guān)噴涂工藝。高純氮化硅脫模劑粒度在0.5-1.2微米之間，可以有效地解決在涂層高溫固化過程
中的氧化問題，使多晶硅和單晶硅的純度獲得大幅度提高，其粉末的純度可達99.99％以上,可用作光伏工業(yè)中熔煉多晶硅鑄錠的石英坩堝涂層材料?？捎行Х乐观釄鍍?nèi)壁與熔融硅料粘接，方便脫模，同時起到阻隔層作用，保證硅錠純度。與納米氮化硅或其他類型脫模劑相比，具有優(yōu)異的抗氧化性能，確保生產(chǎn)過程中碳、氧等雜質(zhì)濃度獲得有效控制。產(chǎn)品純度高，粒度均勻，性能上完全可與國外同類產(chǎn)品相比較，目前已實現(xiàn)批量化生產(chǎn)。因此可以解決目前國內(nèi)的石英坩堝涂層粉完全依賴日本UBE、德國Starck等進口，且有較大成本優(yōu)勢。