非金屬電熱元件：
其他金屬電熱元件：
其他燒結(jié)氣氛：
其他溫控精度：
-最高溫度：
-額定溫度：
-看了立式爐的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
立式爐主要適用于6"、8"、12"晶圓的氧化、合金、退火等工藝。
氧化是在中高溫下通入特定氣體（O2/H2/DCE），在硅片表面發(fā)生氧化反應(yīng)，生成二氧化硅薄膜的一種工藝。生成的二氧化硅薄膜可以作為集成電路器件前道的緩沖介質(zhì)層和柵氧化層等。
退火是在中低溫條件下，通入惰性氣體（N2），消除硅片界面處晶格缺陷和晶格損傷，優(yōu)化硅片界面質(zhì)量的一種工藝。
應(yīng)用領(lǐng)域：
用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領(lǐng)域。
暫無數(shù)據(jù)！
立式爐的工作原理介紹？立式爐的使用方法？立式爐多少錢一臺？立式爐使用的注意事項立式爐的說明書有嗎？立式爐的操作規(guī)程有嗎？立式爐的報價含票含運費嗎？立式爐有現(xiàn)貨嗎？立式爐包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
