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菲希爾金鎳測(cè)厚儀，無(wú)損多層鍍層測(cè)厚儀
金鎳測(cè)厚儀用途
該設(shè)備適用于多層鍍層厚度測(cè)量及材料分析，可用來(lái)定量和定性分析樣品的元素組成，也可用于鍍層和鍍層系統(tǒng)的厚度測(cè)量，*多可同時(shí)測(cè)定24種元素，廣泛應(yīng)用于電路板、半導(dǎo)體、電鍍、珠寶等工業(yè)中的功能性鍍層及電鍍槽液中的成分濃度分析。
金鎳測(cè)厚儀特點(diǎn)：
1、無(wú)論是鍍層厚度測(cè)量，還是鍍液分析，復(fù)雜的多鍍層應(yīng)用，一個(gè)軟件程序就可以完成所有測(cè)量應(yīng)用
2、X射線管有帶玻璃窗口和鎢靶的X射線管或帶鈹窗口和鎢靶的微聚焦X射線管多種選擇
3、X射線探測(cè)器PC（比例接收器）、PIN（硅PIN接收器）、SDD（硅漂移接收器）
4、可自動(dòng)切換的準(zhǔn)直器和多種濾片可以靈活地應(yīng)用不同測(cè)量。
X射線熒光鍍層測(cè)厚及材料分析儀
測(cè)量方向 | 產(chǎn)品型號(hào) | 應(yīng)用范圍 | 檢測(cè)器 | 射線管 | 基本濾片 | 準(zhǔn)值器數(shù)量/尺寸(mm) | C型開槽 |
從下往上 | XUL | 一款適合電鍍廠測(cè)量鍍層厚度的性價(jià)比高的儀器，它配備了一個(gè)固定的準(zhǔn)值器和濾，射線管出射點(diǎn)稍大，非常適合測(cè)量點(diǎn)在1mm以上的應(yīng)用。對(duì)于測(cè)量典型電鍍層厚度的應(yīng)用，如Cr/Ni/Cu等，非常合適。 | PC | 標(biāo)準(zhǔn) | 1 | 1（Φ0.3） | 是 |
XULM | 多用途的鍍層厚度測(cè)量?jī)x。無(wú)論是薄的還是厚的鍍層（如50nm Au或100um Sn）都通過(guò)選擇好的高壓濾片組合很好的測(cè)量。微聚焦管可以達(dá)到在很短的測(cè)量距離內(nèi)小到100um的測(cè)量點(diǎn)大小。高達(dá)數(shù)kcps的計(jì)數(shù)率可以被比例接收器接收到。 | PC | 微聚焦 | 3 | 4（0.05*0.05-Φ0.3） | 是 | |
XAN110/120 | 專門為分析金合金開發(fā)的劃算的儀器。比較XAN而言，只有一個(gè)固定的準(zhǔn)直器和固定的濾片，特別適合貴金屬分析。XAN 110配備比例接收器，適于幾種合金元素的簡(jiǎn)單分析。XAN120配備了半導(dǎo)體接收器，更可以應(yīng)用于多元素的復(fù)雜分析。 | PC(XAN 110) PC(XAN 120) | 標(biāo)準(zhǔn) | 1 | 1（Φ0.3XAN110） 1(Φ1XAN120) | 否 | |
XAN | 分析專用儀器，測(cè)量方賂從下到上。用途廣泛。測(cè)量室全封閉，可以使作大準(zhǔn)直器分析，高計(jì)數(shù)康可也可被硅漂移探測(cè)器處理。激發(fā)和輻射檢測(cè)方式與XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物質(zhì)衡量分析的理想儀器。 | PIN SDD | 微聚焦 | 3/6 | 4（Φ0.2-Φ2） | 否 | |
從上往下測(cè)量 | XDL | 適合鍍層厚度測(cè)量的耐用儀器，即使大測(cè)量距離也可以測(cè)量（DCM，范圍0-80mm）配備一個(gè)固定的準(zhǔn)值器和固定的濾片。適合測(cè)量點(diǎn)在1mm以上的應(yīng)用；跟XUL類似?？蛇x 用自動(dòng)測(cè)量的可編程工作臺(tái)。 | PC | 標(biāo)準(zhǔn) | 1 | 1（Φ0.3） | 是 |
XDLM | 比XDL適用面更廣，配備微聚焦管，4個(gè)可切換的準(zhǔn)直器和3個(gè)基本濾片。測(cè)量頭與XULM想似；適合于測(cè)量小的結(jié)構(gòu)如接插件觸點(diǎn)或印刷線路板，也可以測(cè)量大的工作（DCM，范圍0-80mm） | PC | 微聚焦 | 3 | 4（0.05*0.05-Φ0.3） | 是 | |
XDAL | 與XDLM類似但配備了半導(dǎo)體接收器。這樣就可能可以分析元素和測(cè)量超薄層（基于良好的信噪比）。比較適合測(cè)量結(jié)構(gòu)較大的樣品。 | PIN | 微聚焦 | 3 | 4（Φ0.1-Φ0.6） | 是 | |
XDC-SDD | 適合于全部應(yīng)用的高端機(jī)型。根據(jù)測(cè)量點(diǎn)大小和光譜組成，激發(fā)方式靈活多樣。配備了硅漂移接收器，即使強(qiáng)度高達(dá)>100kcps的信號(hào)也可以在不損失分辨率的情況下處理。 | SDD | 微聚焦 | 6 | 4（Φ0.1-Φ0.3） | 否 | |
SDV-U | 專用微觀分析的測(cè)量?jī)x器。根據(jù)X射線光學(xué)部件的不同，可以分析小到100um或更小的結(jié)構(gòu)。強(qiáng)度很高所以精度也非常好。即使很薄的鍍層，測(cè)量不確定性小于1nm也是可能的。僅適于測(cè)量表面平整或接近平整的樣品。 | SDD | 微聚焦 | 4 | 多毛細(xì)管系統(tǒng) | 是 | |
XDV-Vacuum | 具備綜合測(cè)量能力的通用高端機(jī)型。與XDV-XDD相當(dāng)。但可外配備了可抽真空的測(cè)量室，這樣就使得分析從原子序數(shù)Z=11(Na)開始的輕元素成為可能。高精度的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的XYZ平臺(tái)和視頻攝像頭可以精確定位樣品位置和測(cè)量細(xì)小部件。 | SDD | 微聚焦 | 6 | 4（Φ0.1-Φ3） | 否 | |
在線測(cè)量 | X-RAY 4000 | 用于生產(chǎn)過(guò)程中薄膜，金屬帶或穿孔帶的連續(xù)測(cè)量。測(cè)量頭可以裝配與樣品傳送方向的直角的位置。操作方便，啟動(dòng)迅速。 | 數(shù)據(jù)接口可集成到質(zhì)量管理或控制系統(tǒng) | ||||
X-RAY54000 | 用于生產(chǎn)線上連續(xù)測(cè)量的法蘭式測(cè)量頭。測(cè)量帶狀物，薄膜或玻璃的金屬元素。在空氣和真空都可以測(cè)量。提供水冷版本儀器。 | ||||||
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