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金屬材料領域先進的全譜直讀光譜儀

檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數字技術，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術，采用真空光學室設計及全數字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測器，高速數據讀出系統，使儀器具有較高的性能、較低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。

主要技術參數：

光學系統：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；

波長范圍：120nm~589nm

焦距：400mm

探測器：高性能CCD陣列

光源類型：數字光源，高能預燃技術（HEPS）

放電頻率：100-1000Hz

放電電流：400A

工作電源：220VAC 50/60Hz

儀器尺寸：650*860*1200

儀器重量：約235kg（不含真空系統）

檢測時間：依據樣品類型而定，一般25S左右

電極：鎢材噴射電

光學恒溫：34℃± 0.3℃

氬氣要求：99.999％

氬氣進口壓力：0.5MPa

氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min

工作溫度：10℃～35℃

工作濕度：20％～85％

分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測

產品特色：

優(yōu)化設計的真空光學系統

1、整體光學室裝置、帕邢-龍格結構設計，所有譜線集成在羅欄園上；

2、直射式光學技術及透鏡ＭｇＦ２材料，保證Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波長的能量。

全數字激發(fā)光源

1、全數字、高能預燃技術（HEPS），不同樣品設置不同的激發(fā)參數，提高樣品的測量精；

2、和相似性，提高樣品激發(fā)速度，提高火花穩(wěn)定性，使樣品有更好的重現性。

功能性設計的激發(fā)裝置

1、集成氣路、噴射電極技術，開放式銅火花臺，不僅保證樣品測量精度還能購測量各種復雜形狀的樣品（含線材）；

2、單板式透鏡裝置設計，一般人員都能方便對激發(fā)臺進行進行維護和透鏡的清洗。

高集成、高速度讀出系統

1、高性能CCD固態(tài)檢測技術，波段內譜線全譜接收；

2、FPGA及高速數據通訊技術，數據讀入功能強大，檢測數據整體讀入時間短。

直觀、易操作的分析軟件

1、基于WINDOWS系統的多國語言的ＣＣＤ全譜分析軟件全方位的管理和控制整個測量過程，為用戶提供強大的數據處理能力和測試報告輸出能力；

2、儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析及先進的解決方案；

3、儀器實現全譜分析，智能扣干擾，扣暗電流、背景和噪聲的算法，極大的提高了儀器的分析能力。