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PL Mapping測量儀
PL Mapping測量儀

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北京

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暫無
北京卓立漢光儀器有限公司

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◆PLMapping測量

◆多種激光器可選

◆Mapping掃描速度:優(yōu)于20點(diǎn)/秒

◆空間分辨率:10um(物鏡),50um(透鏡)

◆光譜分辨率:0.1nm@1200g/mm

◆Mapping結(jié)果以3D方式顯示

◆**8吋的樣品測量

◆晶片精確定位

◆樣品真空吸附

◆可做低溫測量

◆膜厚測量

測試原理:

PL是一種輻射復(fù)合效應(yīng)。在一定波長光源的激發(fā)下,電子吸收激發(fā)光子的能量,向高能級躍遷而處于激發(fā)態(tài)。激發(fā)態(tài)是不穩(wěn)定的狀態(tài),會(huì)以輻射復(fù)合的形式發(fā)射光子向低能級躍遷,這種被發(fā)射的光稱為熒光。熒光光譜代表了半導(dǎo)體材料內(nèi)部,一定的電子能級躍遷的機(jī)制,也反映了材料的性能及其缺陷。

操作簡便、全電腦控制

PMEye-3000系列PL Mapping測量儀,是一款適合于半導(dǎo)體晶片和LED外延片科研、生產(chǎn)和質(zhì)量控制環(huán)節(jié)的儀器;采用整機(jī)設(shè)計(jì),用戶只需要根據(jù)需要放置合適的檢測樣品,無需進(jìn)行復(fù)雜的光路調(diào)整,操作簡便;所有控制操作均通過計(jì)算機(jī)來控制實(shí)現(xiàn)。

全新的樣品臺(tái)設(shè)計(jì),采用真空吸附方式對樣品進(jìn)行固定,防止對樣品的損傷;可對常規(guī)尺寸的晶圓樣品進(jìn)行精確定位,提高測量重復(fù)性。

系統(tǒng)采用直流和交流兩種測量模式,直流模式用于常規(guī)檢測,交流模式用于微弱熒光檢測。

熒光測量

一般的PL測量儀只是測量熒光的波長和強(qiáng)度。PMEye-3000系列增加對激光強(qiáng)度的監(jiān)控,并根據(jù)監(jiān)控結(jié)果來對熒光測量進(jìn)行校正。這樣就可以消除激發(fā)光源的不穩(wěn)定帶來的測量誤差,也使測量結(jié)果有可比性。

Mapping功能

PMEye-3000系列配置200X200mm的X-Y電控位移臺(tái),**可測量8英寸的晶圓樣品。用戶可以根據(jù)不同的樣品規(guī)格來設(shè)置掃描區(qū)域及空間分辨率,掃描速度優(yōu)于每秒20個(gè)點(diǎn),空間分辨率可達(dá)10um(物鏡),50um(透鏡)。掃描結(jié)果以3D方式顯示,以不同的顏色來表示不同的熒光強(qiáng)度。

激光器

PMEye-3000系列有多種高穩(wěn)定性的激光器可選,系統(tǒng)*多可內(nèi)置2個(gè)激光器和一個(gè)外接激光器,標(biāo)配為1個(gè)激光器。用戶可以根據(jù)測量對象來配置不同的激光器,使PL檢測更加靈活。

PMEye-3000系列可內(nèi)置的激光器波長有:266nm,405nm,442nm,532nm、785nm等,外置激光器波長有:325nm,632.8nm等。

功能強(qiáng)大的軟件

我們具有多年的測量儀器操作軟件的開發(fā)經(jīng)驗(yàn),熟悉用戶的操作習(xí)慣,這使我們開發(fā)的這套PMEye-3000系列操作軟件功能強(qiáng)大且操作簡便。

PMEye-3000系列操作軟件提供單點(diǎn)PL光譜測量及顯示,單波長的X-Y Mapping測量及顯示,mapping結(jié)果以3D方式顯示。同時(shí)具有多種數(shù)據(jù)處理方式來對所測量的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。

低溫樣品室附件

該附件可實(shí)現(xiàn)樣品在低溫狀態(tài)下的熒光檢測。

有些樣品在不同的溫度條件下,將呈現(xiàn)不同的熒光效果,這時(shí)就需要對樣品進(jìn)行低溫制冷。

如圖所示,從圖中我們可以發(fā)現(xiàn)在室溫時(shí),GaN薄膜的發(fā)光波長幾乎含蓋整個(gè)可見光范圍,且強(qiáng)度的**峰出現(xiàn)在580nm附近,但整體而言其強(qiáng)度并不強(qiáng);隨著溫度的降低,發(fā)光強(qiáng)度開始慢慢的增加,直到110K時(shí),我們可以發(fā)現(xiàn)在350nm附近似乎有一個(gè)小峰開始出現(xiàn),且當(dāng)溫度越降越低,這個(gè)小峰強(qiáng)度的增加也越顯著,一直到*低溫25K時(shí),基本上就只有一個(gè)熒光峰。

GaN薄膜的禁帶寬度在室溫時(shí)為3.40Ev,換算成波長為365nm,而我們利用PL系統(tǒng)所測的GaN薄膜在25K時(shí)在356.6nm附近有一個(gè)峰值,因此如果我們將GaN薄膜的禁帶寬度隨溫度變化情況也考慮進(jìn)去,則可以發(fā)現(xiàn)在理論上25K時(shí)GaN的禁帶寬度為3.48eV,即特征波長為357.1nm,非常靠近實(shí)驗(yàn)所得的356.6nm,因此我們可以推斷這個(gè)發(fā)光現(xiàn)象應(yīng)該就是GaN薄膜的自發(fā)輻射。

性能及功能

掃描模式 單波長mapping
攝譜模式 峰值波長mapping;給定波長范圍的積分
光源 405nm激光(標(biāo)配)

150W溴鎢燈(可選,用于膜厚測量)

光源調(diào)制 斬波器
光譜儀 三光柵DSP掃描光譜儀
光譜儀焦距 500mm(標(biāo)配)
波長準(zhǔn)確度 ±0.2nm(1200g/mm,300nm)

±0.6nm(600g/mm,500nm)

±0.8nm(300g/mm,1250nm)

探測器 Si探測器,波長范圍:200~1100nm (標(biāo)配)
數(shù)據(jù)采集設(shè)備 帶前置放大器的數(shù)字采集器DCS300PA

鎖相放大器SR830

二維位移平臺(tái) 行程200*200mm,重復(fù)定位精度<3μm
樣品臺(tái) 具有真空吸附功能,對主流的3’’,4’’,5’’,6’’,8’’的晶片可進(jìn)行精確定位
Mapping掃描速度 優(yōu)于20點(diǎn)/秒
Mapping位移步長 *小可到1um
空間分辨率 10um(物鏡方式),50um(透鏡方式)
重復(fù)定位精度<3μm

探測器選擇

探測器類型 光譜響應(yīng)范圍
R1527光電倍增管 200~680nm
CR131光電倍增管 200~900nm
DSi300硅光電探測器 200~1100nm
DInGaAs1700常溫型銦鎵砷探測器 800~1700nm
DInGaAs1900制冷型銦鎵砷探測器 800~1900nm
DinGaAs2200制冷型銦鎵砷探測器 800~2200nm
DinGaAs2600制冷型銦鎵砷探測器 800~2600nm
創(chuàng)新點(diǎn)

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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