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寬域型氧傳感器-LUS4.2簡介
汽車氧傳感器是測定發(fā)動(dòng)機(jī)燃燒后的排氣中氧是否過剩的一種傳感器，即測試尾氣中氧氣含量，并把氧氣含量轉(zhuǎn)換成電信號傳遞到發(fā)動(dòng)機(jī)計(jì)算機(jī)，使發(fā)動(dòng)機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)以過量空氣系數(shù)（λ＝1）為目標(biāo)的閉環(huán)控制；確保對排氣中的碳?xì)浠衔铮℉C）、一氧化碳（CO）和氮氧 化合物（NOx）三種污染物都有**的轉(zhuǎn)化效率，**程度地進(jìn)行排放污染物的轉(zhuǎn)化和凈化。
寬域型氧傳感器-LUS4.2產(chǎn)品特性
| · 芯片自主研發(fā)、生產(chǎn) |
| · 涵蓋多系列車型 |
| · 滿足車輛行駛過程中在各種氣氛環(huán)境下，傳感器信號穩(wěn)定、精度高，使用壽命長的使用要求 |
寬域型氧傳感器-LUS4.2技術(shù)參數(shù)
| 電阻 | 3.2±0.5Ω |
| 工作電壓 | 6~8V |
| 測量氧濃度范圍 | 0~21% |
| 測量空燃比范圍 | 0~+∞ |
| 測量空燃比誤差 | ±0.01 |
| 起燃時(shí)間 | ≤10s |
寬域型氧傳感器-LUS4.2應(yīng)用領(lǐng)域
汽車電噴系統(tǒng)
暫無數(shù)據(jù)！
方案概述合作背景2023年5月，歐盟委員會發(fā)布了《歐盟排放交易體系（EUETS）指令》（EU2023/959）和《歐盟MRV法規(guī)》（EU2023/957）的最終修訂文本。從2025年開始在歐洲領(lǐng)海運(yùn)營
2025-03-24
項(xiàng)目背景SCR（選擇性催化還原）方法是目前火電、水泥、鋼鐵、焦化等企業(yè)脫硝領(lǐng)域最為成熟有效的一種技術(shù)。在290℃至430℃的溫度區(qū)間以及催化劑的協(xié)同作用下，NOx與氨（NH3）會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將NOx
2025-03-25
項(xiàng)目背景合作背景在“雙碳"目標(biāo)推動(dòng)下，煤礦瓦斯（主要成分為甲烷）的減排與資源化利用成為能源環(huán)保領(lǐng)域的重要方向。乏風(fēng)瓦斯發(fā)電技術(shù)通過摻混低濃度瓦斯與空氣或乏風(fēng)，將甲烷濃度精準(zhǔn)控制在1.0%～1
2025-04-03
項(xiàng)目背景合作背景在全球綠色低碳轉(zhuǎn)型的浪潮下，鋼鐵行業(yè)作為傳統(tǒng)高耗能、高排放領(lǐng)域，面臨著節(jié)能減排的重大壓力。近年來，隨著我國“雙碳"目標(biāo)的明確提出以及環(huán)保政策的日益嚴(yán)格，鋼鐵企業(yè)被賦予了更高的
2025-04-10
煤氣成分與熱值監(jiān)測-山西大型有色金屬生產(chǎn)企業(yè)煤氣巡檢項(xiàng)目 煤氣成分與熱值監(jiān)測-安徽大型鋼鐵冶金企業(yè)煤氣防護(hù)站氣體巡檢項(xiàng)目 煤氣成分與熱值監(jiān)測-陜北大型能源化工企業(yè)氣體濃度與熱值監(jiān)測項(xiàng)目 
5月11-13日，由中國科學(xué)儀器領(lǐng)域權(quán)威平臺儀器信息網(wǎng)主辦的第十八屆中國科學(xué)儀器發(fā)展年會（ACCSI 2025）在上海隆重召開。四方光電作為大會核心品牌合作伙伴之一，攜前沿技術(shù)成果參與此次行業(yè)盛會。公
2025年4月14日，武漢環(huán)境保護(hù)產(chǎn)業(yè)協(xié)會正式發(fā)布了“2024年度武漢市環(huán)保產(chǎn)業(yè)百強(qiáng)企業(yè)”名單。憑借在環(huán)保領(lǐng)域的深厚技術(shù)積累以及“誠信為本，品質(zhì)為先，合作共贏”的經(jīng)營理念，四方光電股份有限公司榮膺登榜
4月12日，第二十三屆中國國際環(huán)保展覽會（CIEPEC 2025）在京圓滿落幕。作為行業(yè)領(lǐng)先的氣體分析儀器與系統(tǒng)化解決方案提供商，四方儀器以十年參展積淀，攜前沿技術(shù)與創(chuàng)新成果亮相展會，全方位展示環(huán)境監(jiān)
一、關(guān)稅博弈下的行業(yè)困境：進(jìn)口設(shè)備成本失控2024年5月以來，中美歐關(guān)稅博弈持續(xù)升級：美國擴(kuò)大對華高額關(guān)稅覆蓋領(lǐng)域，歐盟加速推進(jìn)反補(bǔ)貼調(diào)查，技術(shù)圍堵態(tài)勢愈演愈烈。2025年開年后，關(guān)稅博弈更是顯現(xiàn)出多
1. 腔室清潔終點(diǎn)精確控制的重要性與挑戰(zhàn)薄膜沉積（如CVD/ALD）、光刻和刻蝕是半導(dǎo)體制造的三大核心工藝，其中薄膜沉積作為基礎(chǔ)環(huán)節(jié)，負(fù)責(zé)金屬、介質(zhì)及半導(dǎo)體薄膜的制備。為確保薄膜沉積工藝的穩(wěn)
在復(fù)雜的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中，電氣設(shè)備的防爆功能至關(guān)重要。它如同一道堅(jiān)固的防線，有效防止因電氣火花或高溫使自身成為點(diǎn)火源而引發(fā)的爆炸事故，保障人員生命安全和企業(yè)財(cái)產(chǎn)不受損失。2014年，江蘇昆山某金屬制品公
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