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儀器簡(jiǎn)介：

Autolab系列電化學(xué)工作站素以模塊化設(shè)計(jì)、皮實(shí)穩(wěn)定、軟件一流著稱(chēng)。PGSTAT302N型電化學(xué)工作站是Autolab系列中一款通用型的高性能電化學(xué)綜合測(cè)試儀，能滿足用戶的絕大多數(shù)測(cè)試需要。在這個(gè)基礎(chǔ)之上，它還能夠配置所有的可選模塊和外部設(shè)備，以滿足特殊的測(cè)試要求。

可選擴(kuò)展模塊：

FRA2頻率響應(yīng)分析模塊/BOOSTER10A大電流擴(kuò)展模塊（10A）/BOOSTER20A大電流擴(kuò)展模塊（20A）/BA雙恒電位儀模塊/ECN電化學(xué)噪聲模塊/ECD小電流放大器模塊/LOAD.INT動(dòng)態(tài)負(fù)載接口/VOLT.MULT增壓器模塊/HIGH.VOLT.DIV分壓器模塊/MUX多通道序列測(cè)試模塊/ADC10M超快速取樣模塊/SCAN250超快速線性掃描模塊/FI20模塊/pX模塊

可選附件：

電解池和配件/RDE旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)電極/RRDE選裝環(huán)盤(pán)電極/腐蝕電解池/平板電解池/金片涂布器/VA663極譜工作臺(tái)/EQCM石英晶體微天平

主要應(yīng)用領(lǐng)域：

> 電分析；

> 腐蝕；

> 儲(chǔ)能設(shè)備（燃料電池、電池、太陽(yáng)能光伏電池、超級(jí)電容器等）；

> 電鍍、 電解、 電合成；

> 生物傳感器；

> 微納米器件

> 光譜電化學(xué)

技術(shù)參數(shù)：

Ø **輸出電流：±2A

Ø **輸出電壓：±30V

Ø 施加電位范圍：±10V

Ø 循環(huán)伏安**掃速：250V/s

Ø 施加電位精度：設(shè)定±2mV之±0.2%

Ø 電流范圍：10nA-1A 九檔，自動(dòng)選擇范圍

Ø 施加和測(cè)量電流精度：電流之±0.2%和電流范圍之±0.2%

Ø 施加電流分辨率：電流范圍之0.03%

Ø 測(cè)量電流分辨率：電流范圍之0.0003%

Ø 輸入阻抗：>1Tohm//8pF

Ø 響應(yīng)時(shí)間：<250ns

Ø 交流阻抗頻率范圍：10μHz-1MHz

主要特點(diǎn)：

> 模塊化設(shè)計(jì)，可擴(kuò)展能力強(qiáng)；

> 儀器前面板自帶高清LED背光液晶顯示屏，可實(shí)時(shí)顯示電流電位值；

> 2個(gè)外部信號(hào)輸入/輸出信道，可對(duì)RDE、RRDE、VA663、EQCM等進(jìn)行自動(dòng)控制；

> 取樣頻率高達(dá)50 kHz， 若配置ADC10M模塊后，取樣頻率將增大到10MHz，即每100ns取一個(gè)點(diǎn)；

> 交流阻抗可以一次性進(jìn)行全范圍測(cè)量而不需要分段測(cè)試。同時(shí)，允許對(duì)每一個(gè)頻率設(shè)置不同的波幅。可 提供多波形（5或15個(gè)波形）的測(cè)量模式，大大縮短低頻部分的測(cè)試時(shí)間。支持流體動(dòng)力學(xué)交流阻抗

EHD方法、強(qiáng)度調(diào)制光電流譜IMPS方法和強(qiáng)度調(diào)制光電流IMVS方法。

> 多達(dá)六種阻抗測(cè)試模式：常規(guī)的單電位下的頻率掃描阻抗測(cè)量方法；電位頻率掃描；恒電位下的時(shí)間頻率掃描；單電流下的頻率掃描；電流頻率掃描；時(shí)間頻率掃描；

> 基于Microsoft.NET開(kāi)發(fā)的NOVA軟件，除了支持幾乎所有的固化電化學(xué)測(cè)量方法外，還可以讓用戶自

行設(shè)計(jì)各種測(cè)量條件，從而開(kāi)發(fā)出特有的測(cè)量方法，隨心所欲地將自己的想法和需要得到充分實(shí)現(xiàn)。

>>一個(gè)程序中包括所有的直流和交流方法

>>自動(dòng)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)，從而不必?fù)?dān)心突然斷電

>>支持USB模式：每單個(gè)測(cè)量80000個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)

>>支持所有的新儀器和新模塊

>>可記錄任意多的附加外部信號(hào)

>>任意選擇2D或3D圖形

>>用戶可自定義動(dòng)態(tài)程序，而且可以附帶數(shù)據(jù)分析過(guò)程的程序

>>可以進(jìn)行不限制數(shù)量的階躍方法，并可以關(guān)閉或打開(kāi)數(shù)據(jù)取樣