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真空熱壓燒結(jié)爐品牌
河南酷斯特產(chǎn)地
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1. 設(shè)備用途
本設(shè)備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶瓷、無機(jī)化合物、納米材料等在真空或保護(hù)氣氛的條件下進(jìn)行加壓加熱燒結(jié)處理，以便獲得高致密度的產(chǎn)品，例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等。
2. 方案圖
3. 主要技術(shù)參數(shù)
3.1 電源：三相380V 50Hz
3.2設(shè)計(jì)溫度：2200℃
3.3額定溫度：室溫-2100℃
3.4控溫區(qū)數(shù)：一區(qū)
3.5控溫方式：1200℃低溫時(shí)候熱電偶測溫，1200℃以上高溫紅外測溫
3.8控溫精度：≤±1℃。
3.9冷態(tài)極限真空度：≤6.7*10-3Pa（空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后）
3.10充氣氣氛：惰性氣體
3.10充氣壓力（微正壓）：≤0.03MPa
3.11***壓力：10T（數(shù)顯、自動(dòng)調(diào)壓、自動(dòng)保壓、伺服電動(dòng)控制）
3.12工作區(qū)域壓頭尺寸直徑：Ф150 mm
3.13 樣品尺寸：Ф50-80mm
3.13壓力波動(dòng)：≤±0.01KN，位移精度≤0.01mm
3.14壓力行程：0～100mm（數(shù)顯）
3.15壓力控制：伺服電動(dòng)缸
3.16 控制方式：觸摸屏+plc模
暫無數(shù)據(jù)！
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