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101044品牌
先豐納米產(chǎn)地
江蘇樣本
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一級制作方法：
.質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：
.純度：
.目數(shù)：
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| 貨號 | CAS號 | 編號 | 包裝 | 參數(shù) |
| 101044 | 7440-33-7 | XFG17 | 1 盒 | 基底尺寸: 10 mmx10 mm |
產(chǎn)品名稱
中文名稱: 機(jī)械剝離氧化硅/硅基底二硫化鎢
英文名稱：Mechanical exfoliation WS2 on SiO2/Si
性質(zhì)
形態(tài)：薄膜
參數(shù)
基底：二氧化硅/硅
氧化層：300nm
基底尺寸：10 mmx10 mm
WS2面積：>10 μm2
應(yīng)用
先豐納米**推出機(jī)械剝離制備的二硫化鎢，該類材料具有缺陷少，優(yōu)異的光學(xué)性質(zhì)，可以研究層數(shù)和熒光效應(yīng)，此外，由于保持了原有晶格結(jié)構(gòu)，所以該類材料是制備器件的理想材料。
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